Název: Optimization of reliefs of thin polymer films of resist for phase diffractive optical elements
Autoři: Matějka, František ; Matějková, Jiřina
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: New Trends in Surface nad Thin Film Physics and Engineering - International Summer School, Tři Studně (CZ), 1999-06-14 / 1999-06-18
Rok: 1999
Jazyk: eng
Abstrakt: Electron beam lithography uses polymer electron resists mostly for recording of picture information. The behaviour of these polymer electron resists, under influence of the electron of the given energy, is expressed by the sensitivity curve. The curve of sensitivity is constructed as dependence of the relative change of thickness of the functional layer of resist, on the density of the absorbed energy.
Číslo projektu: CEZ:AV0Z2065902 (CEP)
Zdrojový dokument: New Trends in Surface nad Thin Film Physics and Engineering - International Summer School
Poznámka: Související webová stránka: mailto:iv@isibrno.cz

Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0100929

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-29492


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav přístrojové techniky
Konferenční materiály > Příspěvky z konference