Název: RF plasma deposition and characterization of organosilicon thin films from TEOS+O.SUB.2 gas mixtures
Autoři: Peřina, Vratislav ; Janča, J.
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: Symposium on Plasma Physics and Technology /17./, Prague (CZ), 1995-06-13 / 1995-06-16
Rok: 1995
Jazyk: eng
Zdrojový dokument: Proceedings of 17th Symposium on Plasma Physics and Technology

Instituce: Ústav jaderné fyziky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0080038

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-27503


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav jaderné fyziky
Konferenční materiály > Příspěvky z konference