Název: Modeling of diffusion barrier in nanocrystalline growth
Autoři: Čermák, Jiří ; Rothová, Věra
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: International Conference NANO /03./, Brno (CZ), 2003-10-21 / 2003-10-23
Rok: 2003
Jazyk: eng
Abstrakt: The diffusion of Ge, simulationg the diffusion of Si was studied in eutectic Fe-Nb, in iron and in the Fe2Nb compound, which models the Nb-rich envelope of growing FexSi crystallites in FINEMETs.
Klíčová slova: FINEMET; Ge diffusion; nanocrystalline growth
Číslo projektu: CEZ:AV0Z2041904 (CEP), GA106/01/0384 (CEP), IBS2041105 (CEP), Z20419004-I004
Poskytovatel projektu: GA ČR, GA AV ČR, GA AV ČR
Zdrojový dokument: NANO 03, ISBN 80-214-2527-X

Instituce: Ústav fyziky materiálů AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0075035

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-26594


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav fyziky materiálů
Konferenční materiály > Příspěvky z konference