Název:
Modeling of diffusion barrier in nanocrystalline growth
Autoři:
Čermák, Jiří ; Rothová, Věra Typ dokumentu: Příspěvky z konference Konference/Akce: International Conference NANO /03./, Brno (CZ), 2003-10-21 / 2003-10-23
Rok:
2003
Jazyk:
eng
Abstrakt: The diffusion of Ge, simulationg the diffusion of Si was studied in eutectic Fe-Nb, in iron and in the Fe2Nb compound, which models the Nb-rich envelope of growing FexSi crystallites in FINEMETs.
Klíčová slova:
FINEMET; Ge diffusion; nanocrystalline growth Číslo projektu: CEZ:AV0Z2041904 (CEP), GA106/01/0384 (CEP), IBS2041105 (CEP), Z20419004-I004 Poskytovatel projektu: GA ČR, GA AV ČR, GA AV ČR Zdrojový dokument: NANO 03, ISBN 80-214-2527-X
Instituce: Ústav fyziky materiálů AV ČR
(web)
Informace o dostupnosti dokumentu:
Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR. Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0075035