Název: Preparation of Silicon and Germanium Thin Layers with High Manganese Content by Pulsed Laser Deposition.
Autoři: Koštejn, Martin ; Fajgar, Radek ; Dřínek, Vladislav
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: International Conference Solid State Chemistry 2016 /12./, Prague (CZ), 20160918
Rok: 2016
Jazyk: eng
Klíčová slova: germanides; resistivity; silicides
Číslo projektu: GC15-08842J (CEP)
Poskytovatel projektu: GA ČR
Zdrojový dokument: Book of Abstracts, ISBN 978-80-7080-969-3
Práva: Dílo je chráněno podle autorského zákona č. 121/2000 Sb.

Instituce: Ústav chemických procesů AV ČR (web)
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0262352

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-260856


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav chemických procesů
Konferenční materiály > Příspěvky z konference
 Záznam vytvořen dne 2016-09-29, naposledy upraven 2023-12-11.


Plný tet:
Plný text:
Pokud se vám dokument nezobrazí v prohlížeči, uložte jej na svůj PC a otevřete jej v příslušném programu.
  • Exportovat ve formátu DC, NUŠL, RIS
  • Sdílet