Název: Plazmochemická depozice vrstev z plynné fáze s využitím směsí TVS/Ar a TVS/O2
Překlad názvu: Plasma-enhanced chemical vapor deposition using TVS/Ar and TVS/O2 mixtures
Autoři: Sadílek, Jakub ; Salyk, Ota (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Typ dokumentu: Diplomové práce
Rok: 2013
Jazyk: eng
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická
Abstrakt: [eng] [cze]

Klíčová slova: a-SiC:H; a-SiCO:H; ellipsometry; Fourier transformed infrared spectrometry (FTIR); Plasma enhanced chemical vapor deposi-tion (PECVD); Tetravinylsilane (TVS); thin film; a-SiC:H; a-SiCO:H; elipsometrie; Fourierovsky transformovaná infračervená spek-trometrie (FTIR); plazmochemická depozice z plyné fáze (PECVD); tenké vrstvy; Tetravinylsilane (TVS)

Instituce: Vysoké učení technické v Brně (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11012/23373

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-216936


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Školství > Veřejné vysoké školy > Vysoké učení technické v Brně
Vysokoškolské kvalifikační práce > Diplomové práce
 Záznam vytvořen dne 2016-06-03, naposledy upraven 2022-09-04.


Není přiložen dokument
  • Exportovat ve formátu DC, NUŠL, RIS
  • Sdílet