Original title: SMV-2015-14: Technologie elektronové litografie
Translated title: SMV-2015-14: Development of e-beam lithography technology
Authors: Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Document type: Research reports
Year: 2015
Language: cze
Abstract: [cze] [eng]
Výzkum a vývoj v oblasti přístrojového vybavení pro elektronovou litografii. Výzkum zahrnuje celý litografický systém, zejména elektronové emitéry Schottky ZrO/W, elektronovou optiku se systémem tvarování svazku, X-Y pohybový mechanismus, vakuový systém, napájecí a řídící elektroniku. Development of the devices for electron beam lithography technology. Research and development cover the complete lithography system, in particular Schottky Zro/W electron emitter, electron optical column including beam forming system, X-Y stage, high vacuum system, control system electronics.
Keywords: e-beam lithography; Schottky ZrO/W electron emitter; shaped electron beam

Institution: Institute of Scientific Instruments AS ČR (web)
Document availability information: Fulltext is available at the institute of the Academy of Sciences.
Original record: http://hdl.handle.net/11104/0253889

Permalink: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-201319


The record appears in these collections:
Research > Institutes ASCR > Institute of Scientific Instruments
Reports > Research reports