Original title:
SMV-2014-28: Vývoj testovacích preparátů pro REM
Translated title:
SMV-2014-28: Development of test specimens for SEM
Authors:
Matějka, Milan ; Horáček, Miroslav ; Meluzín, Petr ; Chlumská, Jana ; Král, Stanislav ; Kolařík, Vladimír ; Urbánek, Michal ; Krátký, Stanislav Document type: Research reports
Year:
2014
Language:
cze Abstract:
[cze][eng] Náplní práce byl výzkum/vývoj a realizace přesných reliéfních struktur pomocí mikrolitografických technik v křemíku pro testování zobrazování rastrovacích elektronových mikroskopů (REM). Výzkum zahrnuje analýzu grafických vstupu z ohledu jeho použití pro testování metriky skenovacích elektronových mikroskopů, výzkum vhodných technik a postupů pro přípravu reliéfních prvku v křemíku ve vysoké přesnosti a opakovatelnosti.The aim of the work was the research/development and realisation of precise relief structure for testing imaging of scanning electron microscopes (SEM) using microlithographic techniques of recording in the silicon. Research includes analysis of graphical input with respect of their use for testing of SEM imaging metric, research of appropriate techniques and procedures suitable for the preparation of relief elements in the silicon with high accuracy and repeatability.
Keywords:
e-beam lithography; microlithography; relief structure; silicon etching
Institution: Institute of Scientific Instruments AS ČR
(web)
Document availability information: Fulltext is available at the institute of the Academy of Sciences. Original record: http://hdl.handle.net/11104/0242373