|
|
Studium vlastností periodických mřížek vytvořených elektronovou litografii
Krátký, Stanislav ; Opletal, Petr (oponent) ; Matějka, Milan (vedoucí práce)
Tato práce se zabývá procesem tvorby reliéfních periodických struktur pomocí elektronové litografie. Popisuje, jak navrhnout tyto struktury pomocí počítače a následně je vytvořit elektronovým litografem. Dále se zabývá metodami, kterými můžeme tyto struktury měřit a vyhodnocovat. Tyto metody jsou použity k měření a vyhodnocení binárních periodických mřížek a pomocí získaných dat je stanovena závislost hloubky mřížky na její periodě. Práce se dále zabývá měřením difrakční účinnosti na zhotovených mřížkách a srovnáním závislostí jejich difrakční účinností na hloubce mřížky.
|
|
|
Plazmonické struktury vytvořené pomocí elektronové litografie
Šimík, Marcel ; Urbánek,, Michal (oponent) ; Krátký, Stanislav (vedoucí práce)
Předkládaná práce se zabývá procesem tvorby plazmonických struktur pomocí elektronové litografie. Základním úkolem práce je vytvořit struktury publikované v NatureNanotechnology s použitím rezistu PMMA. Je vytvořeno několik variant motivů struktur s různými expozičními dávkami a tvary, aby bylo možné stanovit nejvýhodnější variantu. Z těchto variant je vyvozeno, které jsou nejefektivnější s použitím optického a elektronového mikroskopu. S těmito informacemi jsou vytvořeny a vyhodnoceny velkoplošné expozice.
|
|
|
Stanovení křivek citlivosti pro litograf s gaussovským svazkem
Šuľan, Dušan ; Horáček,, Miroslav (oponent) ; Krátký, Stanislav (vedoucí práce)
Předkládaná práce se zabývá procesem tvorby struktur pomocí elektronové litografie. Základním zaměřením práce je stanovení křivek citlivosti rezistu PMMA pro elektronový litograf Vistec EBPG 5000+ ES. Křivky citlivosti jsou stanoveny pro různé vývojky, doby vyvolávání a hloubky rezistu. Z těchto křivek jsou poté určeny citlivosti a kontrasty pro danou soustavu rezist-vývojka. Následně jsou křivky citlivosti aplikovány na korekce proximity efektu u reálných struktur, konkrétně u difrakčních periodických mřížek a potom vyhodnoceny.
|
|
|
Elektrostatické vychylovací a korekční systémy
Badin, Viktor ; Oral, Martin (oponent) ; Zlámal, Jakub (vedoucí práce)
Tato diplomová práce se věnuje prozkoumání možností dynamické korekce vad v elektronové litografii. Pro výpočty byl zvolen elektronový litograf BS600. Práce se zabývá korekcí vad vychýlení třetího řádu: zklenutí pole, astigmatismu a zkreslení. Aberace byly spočteny jak pro současný magnetický vychyolvací systém, tak pro nově navržený elektrostatický deflektor. Vlastnosti a vady obou vychylovacích a korekčních systémů byly porovnány.
|
|
|
Magnetic vortex based memory device
Dhankhar, Meena ; Hrabec,, Aleš (oponent) ; Veis,, Martin (oponent) ; Urbánek, Michal (vedoucí práce)
Magnetic vortices are characterized by the sense of in-plane magnetization circulation and the polarity of the vortex core, each having two possible states. As a result, there are four possible, stable magnetization configurations that can be utilized for a multibit memory device. This thesis presents the selective writing of vortex states by electric current pulses and electric readout of the vortex states in a magnetic disk. Prior to the electric measurements, static readout of vortex states is carried out by MFM, and then by MTXM, after applying different current pulses to switch the vortex states. Later, we added all-electric static and finally dynamic readout of the vortex state. Vortex circulation control is based on a geometrical asymmetry formed by cropping one side of the magnetic disk. The flat edge of the disk provides a preferential direction defining the sense of circulation during the nucleation process. Polarity control is generally achieved in a two-step process. Firstly, a homogeneously magnetized perpendicular magnetic anisotropy layer placed at the bottom of the disk imposes a defined vortex polarity upon nucleation of a vortex. Secondly, a fast-current pulse is used to toggle switch the vortex polarity, if needed. Hence, we are able to set the desired vortex state by sending a low amplitude nanosecond pulse that sets the circulation followed by a high amplitude picosecond pulse, which sets the polarity. The vortex states are then detected by electric spectroscopy via the anisotropic magnetoresistance effect. The samples for all the static and dynamic measurements are prepared by e-beam lithography and the lift-off technique.
|
|
|
Magnetic vortex based memory device
Dhankhar, Meena ; Hrabec,, Aleš (oponent) ; Veis,, Martin (oponent) ; Urbánek, Michal (vedoucí práce)
Magnetic vortices are characterized by the sense of in-plane magnetization circulation and the polarity of the vortex core, each having two possible states. As a result, there are four possible, stable magnetization configurations that can be utilized for a multibit memory device. This thesis presents the selective writing of vortex states by electric current pulses and electric readout of the vortex states in a magnetic disk. Prior to the electric measurements, static readout of vortex states is carried out by MFM, and then by MTXM, after applying different current pulses to switch the vortex states. Later, we added all-electric static and finally dynamic readout of the vortex state. Vortex circulation control is based on a geometrical asymmetry formed by cropping one side of the magnetic disk. The flat edge of the disk provides a preferential direction defining the sense of circulation during the nucleation process. Polarity control is generally achieved in a two-step process. Firstly, a homogeneously magnetized perpendicular magnetic anisotropy layer placed at the bottom of the disk imposes a defined vortex polarity upon nucleation of a vortex. Secondly, a fast-current pulse is used to toggle switch the vortex polarity, if needed. Hence, we are able to set the desired vortex state by sending a low amplitude nanosecond pulse that sets the circulation followed by a high amplitude picosecond pulse, which sets the polarity. The vortex states are then detected by electric spectroscopy via the anisotropic magnetoresistance effect. The samples for all the static and dynamic measurements are prepared by e-beam lithography and the lift-off technique.
|
|
| |
|
|
Stanovení křivek citlivosti pro litograf s gaussovským svazkem
Šuľan, Dušan ; Horáček,, Miroslav (oponent) ; Krátký, Stanislav (vedoucí práce)
Předkládaná práce se zabývá procesem tvorby struktur pomocí elektronové litografie. Základním zaměřením práce je stanovení křivek citlivosti rezistu PMMA pro elektronový litograf Vistec EBPG 5000+ ES. Křivky citlivosti jsou stanoveny pro různé vývojky, doby vyvolávání a hloubky rezistu. Z těchto křivek jsou poté určeny citlivosti a kontrasty pro danou soustavu rezist-vývojka. Následně jsou křivky citlivosti aplikovány na korekce proximity efektu u reálných struktur, konkrétně u difrakčních periodických mřížek a potom vyhodnoceny.
|
|
|
Plazmonické struktury vytvořené pomocí elektronové litografie
Šimík, Marcel ; Urbánek,, Michal (oponent) ; Krátký, Stanislav (vedoucí práce)
Předkládaná práce se zabývá procesem tvorby plazmonických struktur pomocí elektronové litografie. Základním úkolem práce je vytvořit struktury publikované v NatureNanotechnology s použitím rezistu PMMA. Je vytvořeno několik variant motivů struktur s různými expozičními dávkami a tvary, aby bylo možné stanovit nejvýhodnější variantu. Z těchto variant je vyvozeno, které jsou nejefektivnější s použitím optického a elektronového mikroskopu. S těmito informacemi jsou vytvořeny a vyhodnoceny velkoplošné expozice.
|
|
|
Studium vlastností periodických mřížek vytvořených elektronovou litografii
Krátký, Stanislav ; Opletal, Petr (oponent) ; Matějka, Milan (vedoucí práce)
Tato práce se zabývá procesem tvorby reliéfních periodických struktur pomocí elektronové litografie. Popisuje, jak navrhnout tyto struktury pomocí počítače a následně je vytvořit elektronovým litografem. Dále se zabývá metodami, kterými můžeme tyto struktury měřit a vyhodnocovat. Tyto metody jsou použity k měření a vyhodnocení binárních periodických mřížek a pomocí získaných dat je stanovena závislost hloubky mřížky na její periodě. Práce se dále zabývá měřením difrakční účinnosti na zhotovených mřížkách a srovnáním závislostí jejich difrakční účinností na hloubce mřížky.
|
host ::
RSS.