Název: Patterning of conductive nano-layers on garnet
Autoři: Chlumská, Jana ; Lalinský, Ondřej ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Kolařík, Vladimír
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: International Conference NANOCON 2020 /12./, Brno (CZ), 20201021
Rok: 2021
Jazyk: eng
Abstrakt: Synthetic crystalline materials of the garnet group are used as scintillators in scanning electron microscopy. If a thick conductive layer is applied on the garnet surface, slower electrons don't have enough energy to pass through this relatively thick conductive layer on the scintillator surface. Therefore, either thinner conductive layer or appropriate patterning of the thicker layer has to be used. Within this contribution we study the patterning process of such conductive nano-layer. Resolution of the patterning process is of high interest. Two approaches are compared: direct writing electron beam lithography and mask projection UV lithography.
Klíčová slova: Electron beam lithography; nano-patterning; yttrium aluminium garnet
Číslo projektu: TN01000008
Poskytovatel projektu: GA TA ČR
Zdrojový dokument: NANOCON 2020. 12th International Conference on Nanomaterials - Research & Application. Conference proceedings, ISBN 978-80-87294-98-7, ISSN 2694-930X
Poznámka: Související webová stránka: https://www.confer.cz/nanocon/2020/3731-patterning-of-conductive-nano-layer-on-garnet

Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0320902

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-447545


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav přístrojové techniky
Konferenční materiály > Příspěvky z konference
 Záznam vytvořen dne 2021-07-25, naposledy upraven 2022-09-29.


Není přiložen dokument
  • Exportovat ve formátu DC, NUŠL, RIS
  • Sdílet