Original title: SMV-2019-03: Tenké membrány
Translated title: SMV-2019-03: Thin membranes
Authors: Krátký, Stanislav ; Matějka, Milan ; Chlumská, Jana ; Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Document type: Research reports
Year: 2019
Language: cze
Abstract: [cze] [eng]
Vývoj technologie přípravy tenkých nitridových membrán ve velké ploše pro potřeby spektroskopie pomocí pomalých elektronů. Během vývoje se vyzkoušelo několik různých technik pro přípravu tenkých membrán – mokré leptání, reaktivní iontové leptání, plasmatické leptání a nízkofrekvenční plasmatické leptání. Zároveň byla vyvinuta technika nepřímého měření takto tenkých membrán. The development of technology for preparation of very thin silicon nitride membrane for use in low energy electron spectroscopy. Several techniques for preparation of thin membranes were tested during the development – wet etching, reactive ion etching, plasma etching, low-frequency plasma etching. Comparative method for the measurement of such thin membranes was developer also.
Keywords: e-beam lithography; plasma etching; reactive ion etching; wet etching

Institution: Institute of Scientific Instruments AS ČR (web)
Document availability information: Fulltext is available at the institute of the Academy of Sciences.
Original record: http://hdl.handle.net/11104/0302493

Permalink: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-408004


The record appears in these collections:
Research > Institutes ASCR > Institute of Scientific Instruments
Reports > Research reports