Název: Měření teplotního koeficientu odporu tlustých vrstev
Překlad názvu: The TCR measurement of thick-film layers
Autoři: Polášek, David ; Psota, Boleslav (oponent) ; Adámek, Martin (vedoucí práce)
Typ dokumentu: Bakalářské práce
Jazyk: cze
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstrakt: [cze] [eng]
Práce se zabývá metodami měření teplotního koeficientu odporu tlustovrstvých past v technologii tlusté vrstvy, která je jednou ze základních mikroelektronických technologii. Vrstvové technologie jsou popsány v úvodní části práce, která je zaměřená na výrobu vlastních vrstev. Teplotní koeficient odporu, jeho výpočet, návrh vzorku pro měření, návrh metodiky pro měření a testování měření teplotního koeficientu odporu jsou uvedeny v další části práce. The work focuses on measurement methods of temperature coefficient of resistance of thick-filmed paste in thick-film technology, which is one of basic mikroelectronic technologies. Layer technologies are described in the beginning of the essay, where I focus on production of my own layers. The temperature coefficient of resistance, its calculation, design of sample for measurement, procedure of measurement and testing of measuring temperature coefficient of resistance are mentioned in the following part of the essay.
Klíčová slova: Tenká vrtsva; teplotní koeficient odporu TKR; tlustá vrstva; čtyřbodová metoda měření; four point measurement; temperature coefficient of resistance TCR; thick film; Thin film

Instituce: Vysoké učení technické v Brně (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11012/72303

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-374823


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Školství > Veřejné vysoké školy > Vysoké učení technické v Brně
Vysokoškolské kvalifikační práce > Bakalářské práce