Název:
Vlastnosti TIO.sub.x./sub. vrstev deponované za atmosférického tlaku
Překlad názvu:
Properties of TIO.sub.x./sub. films deposited at atmosphere pressure
Autoři:
Sedláková, L. ; Hubička, Zdeněk ; Churpita, Olexandr ; Stranyánek, Martin ; Čtvrtlík, Radim ; Špatenka, P. Typ dokumentu: Příspěvky z konference Konference/Akce: Progresívní a netradiční technologie povrchových úprav /2./, Brno (CZ), 2005-11-23 / 2005-11-24
Rok:
2005
Jazyk:
cze
Abstrakt: [cze][eng] TIO.sub.x./sub. byli deponovány za použití RF bariérového pochodňového výboje, který pracuje za atmosférického tlaku a při nízké teplotě substrátu. Jako prekurzor byly použity páry Titanium (IV) isopropoxide Ti[OCH(CH..sub.3./sub.).sub.2./sub.].sub.4./sub. a jako substrát křemenné sklo.Depoziční podmínky při tvorbě vrstev byly u všech vzorků stejné. Byly zkoumány vlastnosti vrstev v závislosti na teplotě žíhání po depozici. U vrstev byla hodnocena tloušťka, anotvrdost, krystalinita vrstev metodou XRD difrakce a rychlost fotokatalytické degradace.TiOx films were deposited on silica glass by RF discharge in atmosphere pressure at low substrate temperature. Some properties of the films were studied depending on annealing temperature after deposition. The thickness, nanohardness, crystallinity and speed of photocatalysis degradation were investigated.
Klíčová slova:
TIO.sub.x./sub. vrstvy; XRD difrakce Číslo projektu: CEZ:AV0Z10100522 (CEP) Zdrojový dokument: Progresívní a netradiční technologie povrchových úprav /2./, ISBN 80-239-6135-7
Instituce: Fyzikální ústav AV ČR
(web)
Informace o dostupnosti dokumentu:
Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR. Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0144154