Název:
Influence of RF discharges on nanocrystalline diamond films growth by pulsed laser deposition
Překlad názvu:
Vliv RF výboje na růst nanokrystalických diamantových vrstev deponovaných metodou pulsní laserové depozice
Autoři:
Novotný, Michal ; Jelínek, Miroslav ; Bulíř, Jiří ; Lančok, Ján ; Vorlíček, Vladimír ; Michalka, M. ; Popov, C. Typ dokumentu: Příspěvky z konference Konference/Akce: NANO'03, Brno (CZ), 2003-10-21 / 2003-10-23
Rok:
2003
Jazyk:
eng
Abstrakt: [eng][cze] In this paper, we report on the growth of NCD films by PLD in pure hydrogen ambient and by HPLD in Ar/H.sub.2./sub. ambient. HPLD systems were based on combination of PLD and addiational RF discharges. The deposited films were studied using Alfastep profilometer, X-ray diffraction, Raman spectroscopy and scanning electron microscopyV této studii je prezentován růst nanokrystalických diamantových vrstev metodou PLD v atmosféře čistého vodíku a metodou HPLD v směsi Ar+H.sub.2./sub.. HPLD systém je založen na kombinaci PLD s přídavným RF výbojem. Vlastnosti deponovaných vrstev byli studovány pomocí profilometru-Alfastep, XRD, ramanovou spektroskopií a skenovacím elektronovým mikroskopem
Klíčová slova:
diamond; laser deposition; thin films Číslo projektu: CEZ:AV0Z1010914 (CEP), IAA1010110 (CEP) Poskytovatel projektu: GA AV ČR Zdrojový dokument: Nano'03, ISBN 80-214-2527-X
Instituce: Fyzikální ústav AV ČR
(web)
Informace o dostupnosti dokumentu:
Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR. Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0008223