|
|
Analysis of a-SiOC:H films by selected spectroscopic techniques
Ondreáš, František ; Zmeškal, Oldřich (referee) ; Čech, Vladimír (advisor)
This bachelor thesis deals with preparation of thin plasma polymer films on the basis of tetravinylsilane by plasma-enhanced chemical vapour deposition and film characterization by selected spectroscopic techniques. The theoretical part is a background research about plasma chemistry and spectroscopic methods of characterisation of thin plasma polymer films. The practical part consisted of preparation of two series of samples and their characterization. Prepared thin plasma polymer films were characterized by selected spectroscopic techniques. Thickness and optical constants were determined by spectroscopic elipsometry. Chemical structure was characterized by infrared spectroscopy. The results indicate the possibility of managing physico-chemical properties of thin plasma polymer films on the basis of tetravinylsilane by deposition conditions and thus possibility of preparation materials tailored to a variety of applications.
|
|
|
Infrared spectroscopy of thin films
Kiss, Andrej ; Čáslavský, Josef (referee) ; Čech, Vladimír (advisor)
Cílem této bakalářské práce je literární rešerše v oblasti tenkých vrstev, plazmochemické depozice z plynné fáze a infračervené spektroskopie Fourierovou transformací, a měření infračervených spekter tenkých vrstev a charakterizace jejich chemické struktury na základě změřených spekter. Pomocí infračervené spektroskopie Fourierovou transformací bylo měřeno pět vzorků tenkých polymerních vrstev z tetravinylsilanu, vytvořených na křemíkovém substrátu pomocí plazmochemické depozice z plynné fázi s efektivním výkonem v rozmezí od 2 W do 150 W. Měření odhalilo chemické vazby přítomné ve vzorcích a jak se struktura měnila s měnící se efektivním výkonem. Snížení absorpčních pásů s přítomností vodíku naznačuje zvýšení zesítění se zvýšeným efektivním výkonem. Také snížení absorpčních pásů s přítomností křemíku poskytuje důkaz pro zvýšení poměru C/Si. Tyto výsledky nám pomáhají porozumět charakteristikám těchto tenkých vrstev a přispívají k pochopení procesu plazmochemické depozice z plynné fáze.
|
|
|
Chemical structure of silicon-based thin films
Olivová, Lucie ; Franta, Daniel (referee) ; Čech, Vladimír (advisor)
This bachelor thesis deals with the characterization and preparation of thin polymer films deposited on silicon wafers by plasma-enhanced chemical vapour deposition. The main part of the work is background research in the field of plasma polymerization and infrared spectroscopy. Thin polymer films based on tetravinylsilane and tetravinylsilane with the addition of mixed gas (argon) were prepared in the experimental part. The prepared thin films of plasma polymers were characterized by the selected spectroscopic technique - infrared spectroscopy. Based on the evaluation of transmission infrared spectra, the chemical structure of the deposited polymer films was determined. The determined chemical structures of the prepared films were observed with respect to the deposition conditions and hence the possibility to prepare tailored films for a variety of applications.
|
|
|
Infrared spectroscopy of thin films
Kiss, Andrej ; Čáslavský, Josef (referee) ; Čech, Vladimír (advisor)
Cílem této bakalářské práce je literární rešerše v oblasti tenkých vrstev, plazmochemické depozice z plynné fáze a infračervené spektroskopie Fourierovou transformací, a měření infračervených spekter tenkých vrstev a charakterizace jejich chemické struktury na základě změřených spekter. Pomocí infračervené spektroskopie Fourierovou transformací bylo měřeno pět vzorků tenkých polymerních vrstev z tetravinylsilanu, vytvořených na křemíkovém substrátu pomocí plazmochemické depozice z plynné fázi s efektivním výkonem v rozmezí od 2 W do 150 W. Měření odhalilo chemické vazby přítomné ve vzorcích a jak se struktura měnila s měnící se efektivním výkonem. Snížení absorpčních pásů s přítomností vodíku naznačuje zvýšení zesítění se zvýšeným efektivním výkonem. Také snížení absorpčních pásů s přítomností křemíku poskytuje důkaz pro zvýšení poměru C/Si. Tyto výsledky nám pomáhají porozumět charakteristikám těchto tenkých vrstev a přispívají k pochopení procesu plazmochemické depozice z plynné fáze.
|
|
|
Chemical structure of silicon-based thin films
Olivová, Lucie ; Franta, Daniel (referee) ; Čech, Vladimír (advisor)
This bachelor thesis deals with the characterization and preparation of thin polymer films deposited on silicon wafers by plasma-enhanced chemical vapour deposition. The main part of the work is background research in the field of plasma polymerization and infrared spectroscopy. Thin polymer films based on tetravinylsilane and tetravinylsilane with the addition of mixed gas (argon) were prepared in the experimental part. The prepared thin films of plasma polymers were characterized by the selected spectroscopic technique - infrared spectroscopy. Based on the evaluation of transmission infrared spectra, the chemical structure of the deposited polymer films was determined. The determined chemical structures of the prepared films were observed with respect to the deposition conditions and hence the possibility to prepare tailored films for a variety of applications.
|
|
|
Analysis of a-SiOC:H films by selected spectroscopic techniques
Ondreáš, František ; Zmeškal, Oldřich (referee) ; Čech, Vladimír (advisor)
This bachelor thesis deals with preparation of thin plasma polymer films on the basis of tetravinylsilane by plasma-enhanced chemical vapour deposition and film characterization by selected spectroscopic techniques. The theoretical part is a background research about plasma chemistry and spectroscopic methods of characterisation of thin plasma polymer films. The practical part consisted of preparation of two series of samples and their characterization. Prepared thin plasma polymer films were characterized by selected spectroscopic techniques. Thickness and optical constants were determined by spectroscopic elipsometry. Chemical structure was characterized by infrared spectroscopy. The results indicate the possibility of managing physico-chemical properties of thin plasma polymer films on the basis of tetravinylsilane by deposition conditions and thus possibility of preparation materials tailored to a variety of applications.
|
guest ::
