|
SMV-2023-63: Odměřovací interferometrické systémy
Mikel, Břetislav
Smluvní výzkum byl zaměřen na vývoj víceosých odměřovacích systémů využívajících nejpřesnější způsob měření na principu interference laserového záření. Základní referencí je laserový zdroj o vlnové délce 633 nm. Odměřovací systémy jsou určeny do zařízení vyžadující přesnost měření v řádech nanometrů.
|
|
SMV-2023-61: Odměřovací systémy pro litografy
Mikel, Břetislav
Smluvní výzkum byl zaměřen na vývoj víceosých odměřovacích systémů využívajících nejpřesnější způsob měření na principu interference laserového záření. Základní referencí je laserový zdroj o vlnové délce 633 nm. Odměřovací systémy jsou určeny do zařízení vyžadující přesnost měření v řádech nanometrů.
|
| |
| |
| |