|
|
Plasma polymers in the nanostructured and nanocomposite coatings
Shelemin, Artem ; Biederman, Hynek (advisor) ; Čech, Vladimír (referee) ; Vyskočil, Jiří (referee)
Title: Plasma polymers in the nanostructured and nanocomposite coatings Author: Artem Shelemin Department / Institute: Department of the Macromolecular Physics Supervisor of the doctoral thesis: Prof. RNDr. Hynek Biederman, DrSc. Abstract: The thesis represents the main results of my research work aimed to study nanostructured and nanocomposite films of plasma polymer. A few alternative experimental approaches were developed and investigated which ranged from low pressure (gas aggregation cluster sources and glancing angle deposition) to atmospheric pressure (dielectric barrier discharge and plasma jet) plasma processing. The metal/metal oxide Ti/TiOx, AlOx and plasma polymer SiOx(CH), Nylon 6,6 nanoparticles were prepared. The analysis of morphology of deposited plasma polymer coatings was performed by AFM and SEM. The chemical composition of films was studied by XPS and FTIR. Keywords: plasma polymer, nanoparticle, thin film, nanostructures
|
|
|
The TCR measurement of thick-film layers
Polášek, David ; Psota, Boleslav (referee) ; Adámek, Martin (advisor)
The work focuses on measurement methods of temperature coefficient of resistance of thick-filmed paste in thick-film technology, which is one of basic mikroelectronic technologies. Layer technologies are described in the beginning of the essay, where I focus on production of my own layers. The temperature coefficient of resistance, its calculation, design of sample for measurement, procedure of measurement and testing of measuring temperature coefficient of resistance are mentioned in the following part of the essay.
|
|
|
Deposition of ultrathin films on polymers
Libenská, Hana ; Hanuš, Jan (advisor) ; Kousal, Jaroslav (referee)
Thin metal films deposited on the polymer substrates are of fundamental importance for the formation of conductive structures on the surfaces of the polymers. In the case of discontinuous layers of silver or copper, so-called anomalous absorption occurs in the visible range of the spectrum. This phenomenon can be used to create different sensors, eg. based on surface enhanced Raman spectroscopy. In this work, the deposition of discontinuous Ag and Cu layers on PEEK and PET polymer foils and glass and polished silicon was used studied. The magnetron sputtering was chosen for deposition at very low pressure and the effect of pressure on the growth of these films was investigated. It was found that at a pressure of 0.2 Pa the copper layers on the two polymers grew almost smooth, while the island structure appeared at a pressure 1.2 Pa. In the case of Ag deposition, the island structure of the layer appeared already at a pressure of 0.2 Pa, and differences in the growth of the Ag films in dependence of the the substrate were observed.
|
|
|
Structure and Properties of Coatings Produced by PVD Technology
Doubrava, Marek ; Horynová, Miroslava (referee) ; Čelko, Ladislav (advisor)
The submitted work is focused on study of 3rd generation DLC films produced by Platit a.s. company. Thin films are deposited utilizing filtered cathodic vacuum arc process (FCVA). The main goal of thesis was to find out the influence on film properties, caused by change of the substrate holders with different heat dissipation. The change of the substrate holders is motivated purely by economical effort to increase productivity of the deposition process. Teoretical part of the thesis is about the principles of PVD deposition process, characterization of the thin films, DLC thin films and materials used for cutting tools. Experimental part includes description of devices used for specimens analyses, including also the description of measuring process and used conditions. Acquiered results, not only the thin film thickness, adhesion or amount of sp^3 bonds, match with expected results.
|
|
|
SiO2 etching by Si deposition
Pokorný, David ; Bábor, Petr (referee) ; Polčák, Josef (advisor)
This bachelor thesis deals with one of the most interesting reactions taking place in the solid phase in UHV conditions and that is decomposition of SiO2 according to the equation Si + SiO2 = 2SiO. It was used the previously untested procedure - providing Si atoms not from substrate, but by direct deposition on the surface of the oxide. As a source of silicon atoms was used effusion cell. Deposition of silicon on SiO2 substrate was used at room temperature and at elevated temperature to clarify the principle of this reaction. The activation energy and temperature dependence of the reaction rate was determined. It was also verified the possibility of etching SiO2 by Si deposition in UHV conditions. The prepared samples were examined by x-ray photoelectron spectroscopy and atomic force microscopy.
|
|
|
(100) substrate processing optimization for fabrication of smooth boron doped epitaxial diamond layer by PE CVD
Mortet, Vincent ; Fekete, Ladislav ; Ashcheulov, Petr ; Taylor, Andrew ; Hubík, Pavel ; Trémouilles, D. ; Bedel-Pereira, E.
Boron doped diamond layers were grown in an SEKI AX5010 microwave plasma enhanced chemical vapour deposition system. Effect of surface preparation, i.e. polishing and O2/H2 plasma etching on epitaxial growth on type Ib (100) HPHT synthetic diamonds were investigated. Using optimized substrate preparation, smooth (RRMS ~ 1 nm) boron doped diamond layers with metallic conduction and free of un-epitaxial crystallites were grown with a relatively high growth rate of 3.7 μm/h. Diamond were characterized by optical microscopy, optical profilometry, atomic force microscopy and Hall effect.
|
|
|
Characterization of a new deposition system for coating the fibers
Zvonek, Milan ; Salyk, Ota (referee) ; Čech, Vladimír (advisor)
Cieľom bakalárskej práce je charakterizácia depozičného systému na výrobu tenkých vrstiev. Teoretická časť je zameraná na literárnu rešerš o plazme, plazmovej polymerácií, tenkých vrstvách a ich analýzu pomocou infračervenej spektroskopie a spektroskopickej elipsometrie. Experimentálna časť popisuje použité materiály a aparaturu použitú na prípravu tenkých vrstiev pomocou plazmovej polymerácie. Posledná časť popisuje výsledky merania depozícií tenkých vrstiev a ich vyhodnotenie vzhľadom na depozičné podmienky.
|
|
|
Imaging Reflectometry Measuring Thin Films Optical Properties
Běhounek, Tomáš ; Spousta, Jiří (referee) ; Zicha,, Josef (referee) ; Kotačka, Libor (referee) ; Druckmüller, Miloslav (advisor)
V této práci je prezentována inovativní metoda zvaná \textit{Zobrazovací Reflektometrie}, která je založena na principu spektroskopické reflektometrie a je určena pro vyhodnocování optických vlastností tenkých vrstev .\ Spektrum odrazivosti je získáno z map intenzit zaznamenaných CCD kamerou. Každý záznam odpovídá předem nastavené vlnové délce a spektrum odrazivosti může být určeno ve zvoleném bodu nebo ve vybrané oblasti.\ Teoretický model odrazivosti se fituje na naměřená data pomocí Levenberg~-~Marquardtova algoritmu, jehož výsledky jsou optické vlastnosti vrstvy, jejich přesnost, a určení spolehlivosti dosažených výsledků pomocí analýzy citlivosti změn počátečních nastavení optimalizačního algoritmu.
|
|
|
Non-Destructive Local Diagnostics of Optoelectronic Devices
Sobola, Dinara ; Pína,, Ladislav (referee) ; Pinčík,, Emil (referee) ; Tománek, Pavel (advisor)
Chceme-li využít nové materiály pro nová optoelektronická zařízení, potřebujeme hlouběji nahlédnout do jejich struktury. K tomu, abychom toho dosáhli, je však nutný vývoj a aplikace přesnějších diagnostických metod. Předložená disertační práce, jako můj příspěvek k částečnému dosažení tohoto cíle, se zabývá metodami lokální diagnostiky povrchu optoelektronických zařízení a jejich materiálů, většinou za využití nedestruktivních mechanických, elektrických a optických technik. Tyto techniky umožňují jednak pochopit podstatu a jednak zlepšit celkovou účinnost a spolehlivost optoelektronických struktur, které jsou obecně degradovány přítomností malých defektů, na nichž dochází k absorpci světla, vnitřnímu odrazu a dalším ztrátovým mechanismům. Hlavní úsilí disertační práce je zaměřeno na studium degradačních jevů, které jsou nejčastěji způsobeny celkovým i lokálním ohřevem, což vede ke zvýšené difúze iontů a vakancí v daných materiálech. Z množství optoelektronických zařízení, jsem zvolila dva reprezentaty: a) křemíkové solární články – součástky s velkým pn přechodem a b) tenké vrstvy – substráty pro mikro optoelektronická zařízení. V obou případech jsem provedla jejich detailní povrchovou charakterizaci. U solárních článků jsem použila sondovou mikroskopii jako hlavní nástroj pro nedestruktivní charakterizaci povrchových vlastností. Tyto metody jsou v práci popsány, a jejich pozitivní i negativní aspekty jsou vysvětleny na základě rešerše literatury a našich vlastních experimentů. Je také uvedeno stanovisko k použití sondy mikroskopických aplikací pro studium solárních článků. V případě tenkých vrstev jsem zvolila dva, z hlediska stability, zajímavé materiály, které jsou vhodnými kandidáty pro přípravu heterostruktury: safír a karbid křemíku. Ze získaných dat a analýzy obrazu jsem našla korelaci mezi povrchovými parametry a podmínkami růstu heterostruktur studovaných pro optoelektronické aplikace. Práce zdůvodňuje používání těchto perspektivních materiálů pro zlepšení účinnosti, stability a spolehlivosti optoelektronických zařízení.
|
|
|
Selective growth of metallic materials.
Šimíková, Michaela ; Schneeweiss, Oldřich (referee) ; Čechal, Jan (advisor)
The diploma thesis deals with selective growth of cobalt thin films on lattices created by focused ion beam on Si(111) substrates with thin film of silicon dioxide. Further, the growth and morphology of iron thin films growing on Si/SiO2 substrate without modification was studied. In the last part, thin film of a-C:H, influence of preparation parameters on their growth and ratio of sp2 and sp3 bonds, was investigated. For analysis of those films XPS, AFM, and SEM metods were used.
|
guest ::
