|
| |
|
| |
|
|
Deterministicky aperiodické obrazové zařízení
Horáček, Miroslav ; Meluzín, Petr ; Krátký, Stanislav ; Knápek, Alexandr ; Mika, Filip ; Chlumská, Jana ; Matějka, František ; Král, Stanislav ; Brunn, Ondřej ; Giričová, D. ; Kopal, Jaroslav ; Kolařík, Vladimír
Příspěvek se týká analýzy, návrhu a přípravy difrakčního opticky variabilního obrazového zařízení tvořeného deterministicky aperiodickou sítí základních optických prvků. Teoretický základ je doplněn numerickou analýzou a prezentací realizované matrice a jejích replik.
|
|
| |
|
|
SMV-2017-04: Vývoj technologie elektronové litografie
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur na principu difraktivní optiky prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném křemíkovou nebo skleněnou deskou. Výzkum zahrnuje analýzu grafického resp. optického motivu, výzkum a aplikaci reliéfních struktur realizujících požadované grafické resp. optické vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální realizace reliéfních struktur, vypracování a analýzu technologie realizace reliéfní struktury s ohledem na limity současných vědeckých přístrojů, ověření teoretických úvah expozicí vzorku reliéfní struktury.
|
|
|
SMV-2017-02: Analýza planárních mikrostruktur vytvářených kombinovaným způsobem zápisu
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj materiálů, technologických postupů a metodiky vytváření planárních mikrostruktur. Příprava a vyhodnocení vlastností tenkých vrstev vhodných pro zápis planárních mikrostruktur, analýza mikrostruktur na elektronovém a konfokálním mikroskopu, příprava masek na litografu pro kombinované expozice, využití dalších technologií – např. UV soukrytovačky masek, RIE a dalších, ověření navržené metodiky, vyhodnocení dosažitelných parametrů, sepsání písemné zprávy.
|
|
|
SMV-2017-01: Reliéfní struktury na principu difraktivní optiky
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur na principu difraktivní optiky prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném křemíkovou nebo skleněnou deskou. Výzkum zahrnuje analýzu grafického resp. optického motivu, výzkum a aplikaci reliéfních struktur realizujících požadované grafické resp. optické vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální realizace reliéfních struktur, vypracování a analýzu technologie realizace reliéfní struktury s ohledem na limity současných vědeckých přístrojů, ověření teoretických úvah expozicí vzorku reliéfní struktury.
|
|
|
SMV-2017-03: Planární mikrostruktury pro optické aplikace
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Vývoj planárních mikrostruktur pro optické aplikace a následná realizace vzorků metodou elektronové litografie. Projekt zahrnuje zpracování a analýzu technického zadání, návrh optimální planární mikrostruktury realizující požadované optické vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální a technologické realizace mikrostruktur s ohledem na limity vědeckých přístrojů, kterými disponujeme ve své laboratoři, přípravu datových vstupů pro expozici na elektronovém litografu, vlastní realizaci vzorků, vyhodnocení těchto vzorků a zpracování technické dokumentace.
|
|
|
Blaze Gratings with a Ribbed Back Slope
Krátký, Stanislav ; Meluzín, Petr ; Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Chlumská, Jana ; Král, Stanislav
Binary relief phase-modulated gratings provide symmetrical diffraction of the incoming light beam. Asymmetrical gratings, e.g. asymmetrical triangular blazed gratings, are characteristic by an asymmetrical diffraction behavior, where one of the first diffraction orders is more important than the other one. Electron beam lithography is a suitable and flexible tool for patterning of such kind of gratings. High quality results can be readily obtained when the period of the grating is relatively large and the relief depth is relatively low, this is the case of gratings with a small blaze angle. As the blaze angle increases, the quality of result suffers from several patterning-related issues. One of the problems is a reflection of the incoming light beam from the back slope (anti-blaze facet) of the blaze grating. We propose a novel configuration, with a ribbed modulation of the back slope. This modulation is perpendicular to the direction of the grating grooves. This paper presents an analysis of the proposed blazed grating configuration. E-beam pattern generators were used to prepare a few\nsamples of blaze gratings with a ribbed back slope. One part of the experiment was performed with a Gaussianshaped beam and another one with the variable-shaped beam. Results of the experiment are presented.\nFinally, we discuss the optical performance of two blaze gratings with similar parameters, one of them is with the flat back slope and another one is with the ribbed back slope.
|
|
|
Nanopatterning of Silicon Nitride Membranes
Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Řiháček, Tomáš ; Kolařík, Vladimír ; Chlumská, Jana ; Urbánek, Michal
Membranes are typically created by a thin silicon nitride (SIN) layer deposited on a silicon wafer. Both, top and bottom side of the wafer is covered by a thin layer of the silicon nitride. The principle of silicon nitride membranes preparation is based on the wet anisotropic etching of the bottom side of the silicon wafer with crystallographic orientation (100). While the basic procedure for the preparation of such membranes is well known, the nano patterning of thin membranes presents quite important challenges. This is partially due to the mechanical stress which is typically presented within such membranes. The resolution requirements of the membrane patterning have gradually increased. Advanced lithographic techniques and etching procedures had to be developed. This paper summarizes theoretical aspects, technological issues and achieved results. The application potential of silicon nitride membranes as a base for multifunctional micro system (MMS) is also\ndiscussed.
|
host ::
RSS.