|
Technologie leptání křemíku
Krátký, Stanislav ; Ježek,, Jan (oponent) ; Matějka, Milan (vedoucí práce)
Tato práce se zabývá technologií mokrého a suchého leptání křemíku. Zkoumá se použití vodného roztoku hydroxidu draselného. V suchých technikách se práce zaměřuje na plazmatické leptání křemíku směsí CF4+O2. U obou leptacích procesů jsou stanoveny důležité parametry leptání, jako je rychlost leptání křemíku, maskovacího materiálu, selektivita leptání, drsnost povrchu a podleptání masky. Řeší se zde i další pomocné a přípravné práce v technologii leptání. Konkrétně jde o vytváření masky v rezistu a v oxidu křemíku, litografii a leptání rezistu za pomoci kyslíkové plazmy.
|
|
Pozorování izolantů v ESEM
Matějka, Milan ; Špinka, Jiří (oponent) ; Jirák, Josef (vedoucí práce)
Diplomová práce se v teoretické části zabývá principem a problematikou detekce signálních elektronů v rastrovací elektronové mikroskopii a problematikou projevů nabíjení izolačních vzorků. V experimentální části je popsána metodika kvalifikace a kvantifikace projevů nabíjení izolačního vzorku pozorovaném v environmentálním rastrovacím mikroskopu pomocí ionizačního a scintilačního detektoru v závislosti na tlaku vodních par v komoře vzorku. Cílem práce je vytvoření metodiky vhodné pro vyhodnocení nabíjecích projevu při pozorování u izolačních vzorku a na základě měření, stanovení optimálních podmínek pozorování izolantů v EREM pro ionizační a scintilační detektor.
|
|
Měření parametrů komunikace přes PCI Express
Matějka, Martin ; Martínek, Tomáš (oponent) ; Matoušek, Jiří (vedoucí práce)
Táto bakalárska práca sa zaoberá vytvorením jednotky, ktorá je schopná merať parametre komunikácie na zbernicovom štandarde PCI Express 3.0. Navrhnutá jednotka je určená pre čip FPGA umiestnený na akceleračnej karte s PCI Express rozhraním. Zároveň opisuje softvér implementovaný v jazyku C, určený na jej ovládanie. V poslednej časti tejto práce sú ukázané experimenty s navrhnutou a implementovanou jednotkou.
|
|
SMV-2023-01: Reliéfní struktury na principu diftraktivní optiky
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur na principu difraktivní optiky prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném křemíkovou nebo skleněnou deskou. Výzkum zahrnuje analýzu grafického resp. optického motivu, výzkum a aplikaci reliéfních struktur realizujících požadované grafické resp. optické vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální realizace reliéfních struktur, vypracování a analýzu technologie realizace reliéfní struktury s ohledem na limity současných vědeckých přístrojů, ověření teoretických úvah expozicí vzorku reliéfní struktury.
|
|
SMV-2023-02: Reliéfní optické prvky pro tvarování světelných svazků
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti reliéfních optických prvků pro tvarování světelných svazků, metrologie vzorků reliéfních optických prvků s využitím různých mikroskopických technik s ohledem na analýzu degradací reliéfu ve výrobních procesech, poradenství v oblasti litografických procesů se zaměřením na zápis elektronovým svazkem a následné replikační procesy. Návrh a optimalizace mikrooptických struktur pro různé konfigurace projektorových osvětlovacích systémů, metrologie vybraných optických mikrostrukturovaných reliéfů a analýza optické funkce, optimalizaci materiálů pro replikaci mikrooptických struktur, poradenství v oblasti replikace hlubokých mikrooptických prvků na různé optické povrchy.
|
| |
|
SMV-2023-05: DI2023
Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Meluzín, Petr ; Košelová, Zuzana ; Chlumská, Jana ; Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Knápek, Alexandr
Výzkum se soustředí na zkoumání a vývoj precizních kalibračních vzorků s reliéfními strukturami. Tyto vzorky jsou koncipovány pro kalibraci parametrů ve skenovacích elektronových mikroskopech (SEM). Testovací vzory umožňují ověření kvality zobrazovaní danou mikroskopickou technikou jako je celkové zvětšení, velikost zorného, rozlišení, deformace zobrazení v laterárních osách a další geometrická zkreslení. Pro přípravku jsou využívány precizní litografické techniky a další techniky vycházející z technologií zpracování křemíku z polovodičového průmyslu. Vývoj byl zaměřen na optimalizaci záznamu leptacích masek před přenosem obrazu do monokrystalické křemíkové podložky.
|
| |
|
SMV-2022-01: Reliéfní struktury na principu difraktivní optiky
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur na principu difraktivní optiky prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném křemíkovou nebo skleněnou deskou. Výzkum zahrnuje analýzu grafického resp. optického motivu, výzkum a aplikaci reliéfních struktur realizujících požadované grafické, resp. optické vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální realizace reliéfních struktur, vypracování a analýzu technologie realizace reliéfní struktury s ohledem na limity současných vědeckých přístrojů, ověření teoretických úvah expozicí vzorku reliéfní struktury.
|
|
A sampler of diffraction and refraction optically variable image elements
Horáček, Miroslav ; Krátký, Stanislav ; Matějka, Milan ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Pirunčík, J. ; Aubrecht, I. ; Kotrlý, M. ; Kolařík, Vladimír
Diffraction and refraction optically variable image elements are basic building blocks of planar structures for advanced security of documents and valuables. A sampler formed by an array of 36 diffraction structures binary, tertiary, quaternary and blazed gratings (period range 400 nm 20,000 nm) represents a cross-section throughout technological steps mastering, galvanic replication and embossing. Electron-beam writing technology with Gaussian beam and electron energy of 100 keV, with very small forward scattering of high energy electrons and with the possibilities to create a linear grating with the minimal period of 100 nm, was used to create the master. An important advantage of high-resolution electron-beam lithography is its substantial flexibility in combining possible planar structures with significantly different parameters, such as very dense and relatively shallow structures together with deep structures (approx. 10 microns) with precise shapes (micro-lenses or Fresnel structures). For protection of documents and valuables, interesting results are induced with planar optical structures consisting of non-periodic arrangements, which are characterized by high robustness to counterfeiting and imitation. While the origination process is available for grating period down to 100 nm, the mass replication technology appears to be a bottleneck of the entire technological process. Measurement of topology and profiles of the structures by atomic forces microscope and documenting the quality of technological process of the three steps of replication of planar optically variable elements was performed for all 36 structure types of sampler.
|