Název: Příprava optických tenkých vrstev metodou depozice z chemických par
Překlad názvu: Preparation of optical thin films by chemical vapor deposition
Autoři: Koryčánek, Adam ; Kvapil, Michal (oponent) ; Kolíbal, Miroslav (vedoucí práce)
Typ dokumentu: Bakalářské práce
Rok: 2024
Jazyk: cze
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství
Abstrakt: [cze] [eng]
Tato práce se zaměřuje na porovnání metod fyzikální depozice tenkých antireflexních vrstev s metodami depozice s chemických par (CVD), pro aplikace v oblasti optiky. Nejprve jsou zahrnuty základní pojmy a principy související s antireflexními vrstvami, jejich depozicí a charakterizací. Dále v experimentální části jsou použity techniky elipsometrie, rastrovací sondové mikroskopie (AFM) a rentgenové fotoelektronové spektroskopie (XPS) k charakterizaci vlastností a porovnání vrstev. This work is focused on the comparison between physical vapor deposition methods of thin antireflective layers and chemical vapor deposition (CVD) methods, for applications in the field of optics. The work begins with basic concepts and principles related to anti-reflective coatings, their deposition and characterization. Furthermore, in the experimental part, the techniques of ellipsometry, atomic force microscopy (AFM) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) are used to characterize the properties of the layers and their comparison.
Klíčová slova: antireflexní vrstvy; depozice atomárních vrstev; depozice z plynné fáze; elipsometrie; oxid hafničitý; oxid titaničitý; rastrovací sondová mikroskopie; rentgenová fotoelektronová spektroskopie; antireflective layers; atomic force microscopy; atomic layer deposition; ellipsometry; hafnium oxide; physical vapor deposition; titanium oxide; x-ray photoelectron spectroscopy

Instituce: Vysoké učení technické v Brně (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT.
Původní záznam: https://hdl.handle.net/11012/248269

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-620015