Název: Naprašování tenkých vodivých vrstev
Překlad názvu: Sputtering of thin conductive layers
Autoři: Sloboda, Alexander ; Vaněk, Jiří (oponent) ; Zatloukal, Miroslav (vedoucí práce)
Typ dokumentu: Bakalářské práce
Rok: 2020
Jazyk: slo
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstrakt: [slo] [eng]
Bakalárska práca sa venuje problematike tenkých vrstiev, najmä tenkých vodivých priehľadných vrstiev a ich depozície na povrch substrátov. Ďalej sa práca zaoberá možnými metódami depozície, ich výhodami a nevýhodami, popisom konštrukcie magnetronového naprašovacieho zariadenia NP12, popisom princípu depozície tenkých vodivých vrstiev, použitím metódy reaktívneho magnetronového naprašovania, prípravou substrátu pred procesom naprašovania a teplotným spracovaním substrátov po nanesení tenkej vrstvy. Pre účely tejto práce bol vytvorený aj návod na obsluhu naprašovacieho zariadenia NP12. V rámci práce boli magnetronovým naprašovaním vytvorené a zažíhané vrstvy ITO na sódnovápenatý kremičitý sklenený substrát pri rôznych procesných parametroch. Tieto experimentálne vytvorené vrstvy boli vyhodnotené z pohľadu kryštalografie pomocou XRD merania, pre určenie vplyvu žíhania na kryštálovú mriežku. Ďalej boli substráty analyzované skenovacím elektrónovým mikroskopom na zistenie prítomných prvkov vo vrstve. This bachelor’s thesis is focused on the issues of thin films, especially thin transparent conductive films, and their deposition on substrate surface. Methods of deposition, their pros and cons, construction of the NP12 sputtering device, fundamentals of a deposition of thin conductive films, using reactive magnetron sputtering, preparation of substrates before deposition and thermal processing of substrates after deposition are issues that are described in this thesis. Instruction manual for magnetron sputtering device NP12 was created. For the purpose of this thesis several samples were prepared by magnetron sputtering device NP12 with different process parameters. These experimentally created samples were evaluated with the help of XRD measurement, to determine the influence of annealing in a vacuum oven on a crystal lattice. Substrates were also analysed by scanning electron microscope to evaluate presence of chemical elements inside the thin films.
Klíčová slova: description of magnetron sputtering device NP12; methods of thin film deposition; reactive magnetron sputtering; stages and description of thin film growth; Thin conductive film; thin film evaluation methods

Instituce: Vysoké učení technické v Brně (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11012/190578

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-592625


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Školství > Veřejné vysoké školy > Vysoké učení technické v Brně
Vysokoškolské kvalifikační práce > Bakalářské práce