Original title: Monitorování plazmochemického procesu s využitím hmotnostní spektrometrie
Translated title: Monitoring of the plasmachemical process using mass spectrometry
Authors: Ondra, Zdeněk ; Čáslavský, Josef (referee) ; Čech, Vladimír (advisor)
Document type: Bachelor's theses
Year: 2020
Language: cze
Publisher: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická
Abstract: [cze] [eng]

Keywords: argon plasma; mass spectrometry; PECVD (plasma chemical vapor deposition); tetravinylsilane; thin films; argonové plazma; hmotnostní spektrometrie; PECVD (plazmochemická depozice z plynné fáze); tenké vrstvy; tetravinylsilan

Institution: Brno University of Technology (web)
Document availability information: Fulltext is available in the Brno University of Technology Digital Library.
Original record: http://hdl.handle.net/11012/195111

Permalink: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-592401


The record appears in these collections:
Universities and colleges > Public universities > Brno University of Technology
Academic theses (ETDs) > Bachelor's theses
 Record created 2024-04-02, last modified 2024-04-03


No fulltext
  • Export as DC, NUŠL, RIS
  • Share