Original title: Naprašování nitridových vrstev pro bioelektronické aplikace pomocí Kaufmanova iontového zdroje
Translated title: Sputtering of nitride layers using Kaufman ion-beam source for bioelectronics applications
Authors: Jarušek, Jaromír ; Chmela, Ondřej (referee) ; Gablech, Imrich (advisor)
Document type: Bachelor's theses
Year: 2022
Language: cze
Publisher: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstract: [cze] [eng]

Keywords: characterization; Kaufman ion-beam source; optical transmission; reactive sputtering; sheet resistance; thin films; titanium nitride; transparent conductive films; charakterizace; Kaufmanův iontový zdroj; nitrid titanitý; optická transmise; průhledné vodivé vrstvy; reaktivní naprašování; tenké vrstvy; vrstvový odpor

Institution: Brno University of Technology (web)
Document availability information: Fulltext is available in the Brno University of Technology Digital Library.
Original record: http://hdl.handle.net/11012/205791

Permalink: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-591504


The record appears in these collections:
Universities and colleges > Public universities > Brno University of Technology
Academic theses (ETDs) > Bachelor's theses
 Record created 2024-04-02, last modified 2024-04-03


No fulltext
  • Export as DC, NUŠL, RIS
  • Share