Název: Barierové vrstvy na bázi SiOx
Překlad názvu: SiOx based barrier coatings
Autoři: Sedláček, Ondřej ; Dzik, Petr (oponent) ; Přikryl, Radek (vedoucí práce)
Typ dokumentu: Bakalářské práce
Rok: 2011
Jazyk: cze
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická
Abstrakt: [cze] [eng]
Tématem této práce je příprava a charakterizace tenkých vrstev vytvořených pomocí takových metod, jako je vakuové napařování, vakuové napařování v plazmatu a plazmochemická depozice z plynné fáze. Výchozími materiály pro přípravu těchto vrstev jsou práškový oxid křemíku, melamin a hexamethyldisiloxan. Tyto vrstvy byly připravovány s ohledem na jejich využití, jako bariérové povlaky, a to s důrazem na jejich odolnost vůči organickým otravným látkám. U těchto vrstev byla provedena charakteristika jak z hlediska jejich fyzikálních vlastností - schopnost odolávat permeaci určitých organických látek, tak z hlediska jejich chemického složení. Metody použité pro výše zmíněné charakteristiky jsou: FTIR, OTR, elipsometrie, SEM a měření odolnosti vůči permeaci vybraných průmyslových škodlivin. The theme of this thesis is based on the preparation and characterization thin films prepared by methods like a Physical Vapor Deposition, Plasma Assisted Vapor Deposition and Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition. The elementary materials for the preparation of these layers are silicon monooxide powder, melamine and hexamethyldisiloxane. These layers have been prepared with regards to their usage like a barrier coatings with emphasis on poisonous organic substances resistance.. We made a characterization of these films. This characterization is consist of researching of their physical properties (the ability to resist permeation of certain organic compounds), and their chemical composition too. We used to some specific method for these characteristics, for example: FTIR, OTR, ellipsometry, SEM and measuring of the permeation of selected industrial pollutants resistance.
Klíčová slova: bariérové vlastnosti; HMDSO; melamin; PA PVD; PECVD; PVD; SiOx; tenké vrstvy; barrier properties; HMDSO; melamine; PA PVD; PECVD; PVD; SiOx; thin films

Instituce: Vysoké učení technické v Brně (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11012/18144

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-565552


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Školství > Veřejné vysoké školy > Vysoké učení technické v Brně
Vysokoškolské kvalifikační práce > Bakalářské práce