Název: Příprava nanostruktur pomocí mokrého chemického leptání
Překlad názvu: Fabrication of nanostructures using wet chemical etching
Autoři: Musálek, Tomáš ; Šamořil, Tomáš (oponent) ; Kolíbal, Miroslav (vedoucí práce)
Typ dokumentu: Bakalářské práce
Rok: 2014
Jazyk: cze
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství
Abstrakt: [cze] [eng]
Tato bakalářská práce se zabývá mokrým anizotropním leptáním křemíku a germania. Ukazuje dva možné přístupy tvorby anizotropních leptů a popisuje pomocné práce nutné k samotnému leptání. Jedná se zejména o přípravu masky elektronovou litografií, odleptání SiO2 resp. GeO2 a nanášení kovových částic. This bachelor's thesis deals with wet anisotropic etching of silicon and germanium. Two different approaches to the formation of anisotropic etch pits are shown. The supporting activities required for etching procedure are described. Especially, preparation of mask by electron beam litography, etching of SiO2 resp. GeO2 and application of metal particles.
Klíčová slova: anizotropní leptání; elektronová litografie; germanium; kovové nanočástice.; Křemík; anisotropic etching; electron beam litography; germanium; metal nanoparticles.; Silicon

Instituce: Vysoké učení technické v Brně (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11012/33361

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-557016


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Školství > Veřejné vysoké školy > Vysoké učení technické v Brně
Vysokoškolské kvalifikační práce > Bakalářské práce