Název: Kvalifikace depoziční pece
Překlad názvu: Characterization of VTR-7000 deposition furnace
Autoři: Petrová, Lenka ; Ulrych, Jan (oponent) ; Semiconductor, Vlastimil Hanáček, ON (vedoucí práce)
Typ dokumentu: Bakalářské práce
Rok: 2009
Jazyk: eng
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstrakt: [eng] [cze]
Tato práce je zaměřena na problém nastavení CVD pece pro produkci ve výrobním závodu. Problém je, že přesná zařízení jako depoziční pece musíbýt pro produkci nastaveny až na místě, kde budou provozovány. Toho je možno docílit pomocí statistických nástrojů jako například DOE (design of experiment). Vstupní hodnoty procesu ovlivňují výstupy. Úkolem DOE je definovat, jakým způsobem. Z předchozího DOE provedeného v závodě COM1 vyplývají některá nastavení proměnných. Jiné proměnné musí být nastaveny dle předchozích zkušeností. Úkolem práce je seznámit čtenáře se základy depozice z plynné fáze a konceptem DOE. Následně je navržen vlastní experiment. Tento je vyhodnocen a výstupem práce je pak ideální nastavení reaktoru. Čtenáři bude též nepřímo představen proces DMAIC, který byl použit při samotném experimentu a vyhodnocování v ON Semiconductor, Rožnov pod Radhoštěm, CZ4 WFAB. This bachelor’s thesis deals with the problem of adjusting of a CVD (chemical vapor deposition) reactor for operations in a given plant. The problem is that precise machines such as a CVD reactor have to be adjusted for function in the place, where they will be operated. This can be done by using statistical tools such as the DOE (design of experiment). There is a range of inputs that can affect the results of the deposition process. From these some will have to be selected as constants and some will become variables in the DOE. The target of this project is to introduce the reader to the topic of CVD, then, from previous DOE done on such machine in the COM1, design an experiment to adjust the machine in CZ4 WFAB for production, evaluate the acquired data and obtain the ideal setting for the reactor. The reader will be indirectly introduced also to DMAIC process since the DMAIC was used to evaluate the actual experiment in ON Semiconductor, Rožnov pod Radhoštěm, CZ4 WFAB.
Klíčová slova: chemical vapor deposition; CVD; deposition furnace; DMAIC; DOE; factor analysis; OFAT; phosphine; polycrystalline silicon; silane; CVD; depozice z plynné fáze; depoziční pec; DMAIC; DOE; faktorová analýza; fosfin; OFAT; polykrystalický křemík; silan

Instituce: Vysoké učení technické v Brně (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11012/922

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-554213


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Školství > Veřejné vysoké školy > Vysoké učení technické v Brně
Vysokoškolské kvalifikační práce > Bakalářské práce