Název: Vytváření trenčů o submikronové šířce pro moderní výkonové součástky
Překlad názvu: The formation of trenches with a submicron width for advanced power semiconductor devices
Autoři: Bolcek, Martin ; Jankovský, Jaroslav (oponent) ; Szendiuch, Ivan (vedoucí práce)
Typ dokumentu: Diplomové práce
Rok: 2019
Jazyk: cze
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstrakt: [cze] [eng]
Tato diplomová práce je zaměřena na optimalizaci procesu fotolitografie při výrobě polovodičových výkonových součástek. V úvodu je popsán přechod kov-polovodič a s ním související příkopová Schottkyho dioda. Následně je uveden popis dílčích kroků procesu fotolitografie, který tvoří teoretický základ pro testování parametrů fotolitografie. Cílem diplomové práce je optimalizace nastavení procesu fotolitografie pro výrobu trenčů o šířce pod 0,5 µm a její ověření v rámci výrobního bloku struktury trenčů. Práce probíhala ve spolupráci s firmou ON Semiconductor Czech Republic, s.r.o. v Rožnově pod Radhoštěm. This diploma thesis focuses on the optimization of photolithography process in the production of semiconductor devices. It contains theoretical basis of step by step photolithography process on a silicon substrate. It also describes metal-semiconductor contact and Trench Schottky Rectifier. The main goal of this thesis is design and optimization settings of photolithography process for the formation of trenches with a width of less than 0,5 µm. The new photolithography setup was verified across manufacturing process of trenches. The work was carried out in cooperation with ON Semiconductor Czech Republic, s.r.o. in Roznov pod Radhostem.
Klíčová slova: Bossungovy křivky; Fotolitografie; Matice zaostření-expozice; polovodičová výroba; příkopová Schottkyho dioda; Bossung curve; Focus-exposure Matrix; Photolithography; Semiconductor processing; Trech MOS Barrier Schottky rectifier

Instituce: Vysoké učení technické v Brně (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11012/204678

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-546590


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Školství > Veřejné vysoké školy > Vysoké učení technické v Brně
Vysokoškolské kvalifikační práce > Diplomové práce