Název: Pasivace povrchu germania metodou ALD
Překlad názvu: Passivation of germanium surface using ALD
Autoři: Kuba, Jakub ; Polčák, Josef (oponent) ; Kolíbal, Miroslav (vedoucí práce)
Typ dokumentu: Bakalářské práce
Rok: 2014
Jazyk: cze
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství
Abstrakt: [cze] [eng]
Práce se zabývá pasivací povrchu germania pomocí chemického leptání a metodou depozice atomárních vrstev (ALD). Sledována byla především rychlost oxidace povrchu germania a zastoupení jednotlivých oxidů germania po použití vybraných metod pasivace. Součástí práce je rešerše odstraňování nativních oxidů germania a stručný popis použitých metod využívaných pro analýzu (XPS) a depozici tenkých vrstev (ALD). The thesis deals with passivation of germanium surfaces by chemical etching and atomic layer deposition (ALD). Attention was paid to the rate of oxidation of germanium surfaces after selected passivation methods and the composition of the germanium suboxides. In the thesis selected methods for germanium oxide removal are reviewed and a brief description of the methods used for analysis (XPS) and thin film deposition (ALD) is given.
Klíčová slova: Ge; Germanium; nativní oxidy; pasivace; rentgenová fotoelektronová spektroskopie; systém pro depozici atomárních vrstev.; atomic layer deposition.; Ge; Germanium; native oxides; passivation; X-ray photoelectron spectroscopy

Instituce: Vysoké učení technické v Brně (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11012/33388

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-543666


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Školství > Veřejné vysoké školy > Vysoké učení technické v Brně
Vysokoškolské kvalifikační práce > Bakalářské práce