Název:
SMV-2023-05: DI2023
Překlad názvu:
SMV-2023-05: DI2023
Autoři:
Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Meluzín, Petr ; Košelová, Zuzana ; Chlumská, Jana ; Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Knápek, Alexandr Typ dokumentu: Výzkumné zprávy
Rok:
2023
Jazyk:
cze
Abstrakt: [cze][eng] Výzkum se soustředí na zkoumání a vývoj precizních kalibračních vzorků s reliéfními strukturami. Tyto vzorky jsou koncipovány pro kalibraci parametrů ve skenovacích elektronových mikroskopech (SEM). Testovací vzory umožňují ověření kvality zobrazovaní danou mikroskopickou technikou jako je celkové zvětšení, velikost zorného, rozlišení, deformace zobrazení v laterárních osách a další geometrická zkreslení. Pro přípravku jsou využívány precizní litografické techniky a další techniky vycházející z technologií zpracování křemíku z polovodičového průmyslu. Vývoj byl zaměřen na optimalizaci záznamu leptacích masek před přenosem obrazu do monokrystalické křemíkové podložky.The research focuses on the investigation and development of precise calibration samples with relief structures. These samples are designed for calibrating parameters in scanning electron microscopes (SEM). Test patterns allow verification of the imaging quality through microscopic techniques such as overall magnification, field of view size, resolution, deformation in lateral axes, and other geometric distortions. Precision lithographic techniques and other methods derived from silicon processing technologies in the semiconductor industry are employed for sample preparation. The development has been directed towards optimizing the recording of etching masks before transferring the image onto a monocrystalline silicon substrate.
Klíčová slova:
e-beam lithography; microlithography; relief structure; silicon etching
Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR
(web)
Informace o dostupnosti dokumentu:
Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR. Původní záznam: https://hdl.handle.net/11104/0347943