Original title: Tenké vrstvy pro fotovoltaiku nanášené plasmochemickými metodami
Translated title: Thin films for photovoltaics deposited by plasma chemistry methods\n
Authors: Fejfar, Antonín
Document type: Papers
Conference/Event: LŠVT - Letní škola vakuové techniky 2022, Bítov (CZ), 20220530
Year: 2022
Language: cze
Abstract: [cze] [eng]
Tenké vrstvy jsou klíčovou komponentou prakticky všech moderních fotovoltaických článků pro využití sluneční energie. Články využívají tenké vrstvy pro dosažení optimálního záchytu světla, pro rozdělení a sběr fotogenerovaných nábojů i pro pasivaci rozhraní či přímo jako vrstvy absorbující fotony slunečního svitu. Každoročně jsou tak nanášeny vrstvy o celkové ploše řádu mnoha stovek kilometrů čtverečních, a to především s využitím plazmochemických technologií. Thin films are key components for practically all of contemporary photovoltaic cells for solar energy utilization. Cells use thin films for optimizing light trapping, for selecting and collection of photogenerated charges and interface passivation or as absorber layers. Each year several hundreds of square kilometers of thin films are deposited mainly by plasma chemistry methods.
Keywords: deposition; photovoltaics; plasma chemistry; thin films
Project no.: LM2018110 (CEP), CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_026/0008382, EF16_026/0008382
Funding provider: GA MŠk, Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy - GA MŠk, GA MŠk
Host item entry: Zpravodaj ČVS, ISSN 1213-2705

Institution: Institute of Physics AS ČR (web)
Document availability information: Fulltext is available at the institute of the Academy of Sciences.
Original record: https://hdl.handle.net/11104/0338552

Permalink: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-519925


The record appears in these collections:
Research > Institutes ASCR > Institute of Physics
Conference materials > Papers