Original title:
SMV-2021-02: Vývoj a realizace amplitudové masky pro justáž optomechanických soustav
Translated title:
SMV-2021-02: Development and implementation of amplitude masks for adjustment of optomechanical systems
Authors:
Meluzín, Petr ; Chlumská, Jana ; Kolařík, Vladimír ; Kopal, Jaroslav Document type: Research reports
Year:
2021
Language:
cze Abstract:
[cze][eng] Byla vyvinuta, realizována a charakterizována amplitudová maska dle podkladů zadavatele. K přípravě byl použit zápis motivu v zařízení s elektronovým svazkem a související technologické operace. Parametry byly ověřeny pomocí skenování povrchu sondou.An amplitude mask was developed, implemented and characterized according to the partner's documents. The notation of the motif in an electron beam device and related technological operations were used for the preparation. The parameters were verified by scanning the surface with a probe.
Keywords:
e-beam lithography; lithography mask
Institution: Institute of Scientific Instruments AS ČR
(web)
Document availability information: Fulltext is available at the institute of the Academy of Sciences. Original record: http://hdl.handle.net/11104/0321889