Název: Study of intrinsic stress in CNx films prepared by magnetron sputtering device using electron microscopy
Autoři: Mikmeková, Eliška ; Sobota, Jaroslav ; Caha, O. ; Mikmeková, Šárka
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: Mikroskopie 2010, Nové Město na Moravě (CZ), 2010-02-17 / 2010-02-18
Rok: 2010
Jazyk: eng
Abstrakt: Preparation and analysis of amorphous carbon nitride thin films (CNx) deposited by RF magnetron sputtering device on silicon wafers (100) is reported.
Klíčová slova: carbon nitride; RF magnetron sputtering; thin films
Číslo projektu: CEZ:AV0Z20650511 (CEP)
Zdrojový dokument: Mikroskopie 2010, ISBN N

Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0006218

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-42291


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav přístrojové techniky
Konferenční materiály > Příspěvky z konference