Název:
Study of intrinsic stress in CNx films prepared by magnetron sputtering device using electron microscopy
Autoři:
Mikmeková, Eliška ; Sobota, Jaroslav ; Caha, O. ; Mikmeková, Šárka Typ dokumentu: Příspěvky z konference Konference/Akce: Mikroskopie 2010, Nové Město na Moravě (CZ), 2010-02-17 / 2010-02-18
Rok:
2010
Jazyk:
eng
Abstrakt: Preparation and analysis of amorphous carbon nitride thin films (CNx) deposited by RF magnetron sputtering device on silicon wafers (100) is reported.
Klíčová slova:
carbon nitride; RF magnetron sputtering; thin films Číslo projektu: CEZ:AV0Z20650511 (CEP) Zdrojový dokument: Mikroskopie 2010, ISBN N
Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR
(web)
Informace o dostupnosti dokumentu:
Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR. Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0006218