Název: Imaging of thermal treated thin films on silicon substrate in the scanning low energy electron microscope
Autoři: Zobačová, Jitka ; Mikmeková, Šárka ; Polčák, J. ; Frank, Luděk
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation /12./, Skalský dvůr (CZ), 2010-05-31 / 2010-06-04
Rok: 2010
Jazyk: eng
Abstrakt: Structure of thin films usually requires to be examined on microscopic level. The research topics like growth and stability of thin films, phase transitions and separation, crystallization, diffusion and defect formation has a need for LEED or XPS as techniques adequate for investigation of atomic transport processes on short length scales. The low energy electron microscopy is a complementary solution for imaging of samples with special concern for knowledge of surface physics and material science. In this contribution the microscopic examination of as-deposited and thermal treated thin films on Si substrates is performed.
Klíčová slova: Si substrate; SLEEM; thin films
Číslo projektu: CEZ:AV0Z20650511 (CEP), IAA100650803 (CEP)
Poskytovatel projektu: GA AV ČR
Zdrojový dokument: Proceedings of the 12th International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation, ISBN 978-80-254-6842-5

Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0190612

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-41932


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav přístrojové techniky
Konferenční materiály > Příspěvky z konference