Název: Stabilita optického monitoru při depozici 42-vrstvého interferenčního „bandpass“ filtru 520-590 nm
Překlad názvu: Stability of an optical monitor for deposition of 42-layer interference bandpass filter 520-590 nm
Autoři: Žídek, Karel
Typ dokumentu: Výzkumné zprávy
Rok: 2018
Jazyk: cze
Abstrakt: [cze] [eng]
V této zprávě popisujeme stabilitu depozice komplikovaných soustav tenkých vrstev, které byly navrženy jako interferenční filtr s pásmovou propustností. Jde o 42 vrstev TiO2 a SiO2, které jsou monitorovány jednak tzv. krystalovým a optickým monitorem tloušťky. Diskutujeme případ, kdy je návrh IF průběžně upravován podle reálné tloušťky deponovaných vrstev. We report on stability of a deposition process of a complex system of thin layers. The layers were designed as a 42-layer bandpass interference filter. The layers of TiO2 and SiO2 were monitored both by the means of a crystal and an optical thickness monitor. We discuss the case when the design of the interference filter is continuously adapted according to the real thickness of the already deposited layers.
Klíčová slova: deposition stability; interference filter; thickness monitor; thin layer deposition
Číslo projektu: LO1206 (CEP)
Poskytovatel projektu: GA MŠk

Instituce: Ústav fyziky plazmatu AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0287992

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-387521


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav fyziky plazmatu
Zprávy > Výzkumné zprávy