Název:
Screen Printed Diffusion Boron Paste
Překlad názvu:
Difúzní bórové pasty pro sítotisk
Autoři:
Jakubka, L. ; Linhart, Jan ; Szendiuch, I. Typ dokumentu: Příspěvky z konference Konference/Akce: EDS '06 - Electronic Devices and Systems IMAPS CS International Conference, Brno (CZ), 2006-09-14 / 2006-09-15
Rok:
2006
Jazyk:
eng
Abstrakt: [eng][cze] This paper shows that Boron pastes can make emitter and back surface field (BSF) formation a simple screen print process. It is possible to achieve high quality p+ emitter on n-type silicon wafers. It is shown that bifacial solar cells can easily be fabricated by using n-type silicon wafers and simultaneous diffusion of Boron paste. Diffusion length in excess of 300um is achievable on commercial wafers for solar cell application using screen-printed Boron pastes. These high quality diffusion pastes can reduce manufacturing cost and make it possible to use less than 150 um thick silicon wafers for bifacial solar cell application. Článek se zabývá použitím bórových past v procesu sítotisku. Lze tak dosáhnout vysoce kvalitní p+ vrstvy na n-typu polovodiče vhodném pro solární články.
Klíčová slova:
Boron pastes; solar cells Číslo projektu: CEZ:AV0Z20650511 (CEP) Zdrojový dokument: EDS'06 - Electronic Devices and Systems IMAPS CS International Conference 2006 - Proceedings, ISBN 80-214-3246-2
Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR
(web)
Informace o dostupnosti dokumentu:
Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR. Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0141287