Název: Optimisation of Reliefs of Thin Polymer Films of Resist for Phase Diffractive Optical Elements
Autoři: Matějka, František ; Matějková, Jiřina
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: EDS 'Y2K /7./ - Electronic Devices and Systems Workshop, Brno (CZ), 2000-09-04 / 2000-09-13
Rok: 2000
Jazyk: eng
Abstrakt: Electron-beam lithography uses polymer electron resists mostly for recording of picture information. The behaviour of these polymer electron resists, under influence of the electron of the given energy, is expressed by the sensitivity curve. The curve of sensitivity is constructed as dependence of the relative change of thickness of the functional layer of resist, on the density of the absorbed energy.
Klíčová slova: electron-beam lithography
Číslo projektu: CEZ:AV0Z2065902 (CEP), IBS2065014 (CEP)
Poskytovatel projektu: GA AV ČR
Zdrojový dokument: Proceedings - Electronic Devices and Systems Y2K - Intensive Training Programme in Electronic System Design - Workshop, ISBN 80-214-1780-3
Poznámka: Související webová stránka: mailto:matejka@isibrno.cz

Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0101034

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-29514


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav přístrojové techniky
Konferenční materiály > Příspěvky z konference