Original title: Návrh aparatury pro VF plasmové leptání
Translated title: Design of aparature for RF plasma etching
Authors: Bárdy, Stanislav ; Bábor, Petr (referee) ; Mach, Jindřich (advisor)
Document type: Bachelor's theses
Year: 2014
Language: cze
Publisher: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství
Abstract: [cze] [eng]
Táto bakalárska práca sa zaoberá návrhom aparatúry na vysokofrekvenčnú (VF) indukčne viazanú plazmu. V teoretickej časti je rešerne spracované čistenie grafénových povrchov plazmovým leptaním, ďalej sú popísané metódy generovania plazmového výboja a návrh VF elektrického obvodu. Praktická časť sa zaoberá samotnou konštrukciou aparatúry a vyrovnávacej jednotky, optickou diagnostikou plazmového výboja a meraním parametrov leptania PMMA (rýchlosť leptania, drsnosť) použitím spektroskopickej reflektometrie a mikroskopie atomárnych síl. This bachelor's thesis deals with a design of an ICP (Inductively Coupled Plasma) apparatus. The theoretical part consists of a research of a plasmatic graphene surface cleaning. Next are described plasma generation methods and an RF circuit design. The experimental part deals with a construction of the ICP apparatus and the impedance matching box, an optical diagnostics of a plasma discharge and a measurement of PMMA etching parameters (etch rate, roughness) by a spectroscopic reflectometry and an atomic force microscopy.
Keywords: dry etching; graphene cleaning; impedance matching; inductively coupled plasma; PMMA etching; indukčne budená plazma; leptanie PMMA; suché leptanie; vyrovnávanie impedancií; čistenie grafénu

Institution: Brno University of Technology (web)
Document availability information: Fulltext is available in the Brno University of Technology Digital Library.
Original record: http://hdl.handle.net/11012/33300

Permalink: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-214584


The record appears in these collections:
Universities and colleges > Public universities > Brno University of Technology
Academic theses (ETDs) > Bachelor's theses