Název:
Návrh nového termálního disociačního zdroje kyslíkových atomů
Překlad názvu:
Design of the new type of thermal atomic source for oxygen atoms
Autoři:
Šikula, Marek ; Bábor, Petr (oponent) ; Mach, Jindřich (vedoucí práce) Typ dokumentu: Bakalářské práce
Rok:
2013
Jazyk:
cze
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství
Abstrakt: [cze][eng]
Pomocí atomárních zdrojů kyslíku se vyrábí a studují ultratenké oxidové vrstvy, především tzv. high-k vrstvy. Ty jsou základem CMOS tranzistorů a DRAM kondenzátorů. Tato práce zpracovává teorii atomárních svazků kyslíku a způsoby jejich získání. Na základě těchto podkladů je vytvořen konstrukční návrh unikátního typu disociačního atomárního zdroje kyslíku. Návrh byl testován jednoduchými experimenty. Dale je vypracován 3D model zdroje a kompletní výkresová dokumentace.
Ultrathin oxid layers (especially high-k layers) are studied and fabricated by using atomic oxygen sources. These high-k ultrathin layers are integrated into CMOS transistors and DRAM capacitors. In this thesis theory of atomic oxygen beams and ways of theirs creation is summarized. On the basis of the obtained knowledge the engineering design of a unique type of the thermal atomic oxygen source is created. The design was tested by simple experiments. The 3D model and complete engineering drawings are included.
Klíčová slova:
atomární kyslík; iontová vodivost; Termální disociace; termální svazky atomů kyslíku; termální zdroj; ZrO2 keramiky; atomic oxygen; ionic conductivity; thermal beams of oxygen atoms; Thermal dissociation; thermal source; ZrO2 caramics
Instituce: Vysoké učení technické v Brně
(web)
Informace o dostupnosti dokumentu:
Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT. Původní záznam: http://hdl.handle.net/11012/27962