Název: Příprava trojvrstev Ag/Co/Ag
Překlad názvu: Preparation of Ag/Co/Ag Trilayers
Autoři: Burda, Pavel ; Kolíbal, Miroslav (oponent) ; Čechal, Jan (vedoucí práce)
Typ dokumentu: Bakalářské práce
Rok: 2010
Jazyk: cze
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství
Abstrakt: [cze] [eng]
Bakalářská práce je věnována přípravě a studiu ultratenkých vrstev stříbra a kobaltu. Z těchto materiálů jsou tvořeny vrstvy na křemíkových substrátech. Substráty tvoří povrchově upravený krystalický křemík (SiO2/Si(111), Si(111) ?H, Si(111) 7×7) a amorfní SiO2 ve formě křemenného skla. Růst vrstev je prováděn pomocí epitaxe molekulárním svazkem (MBE) za využití efuzní cely. Na vzorek připravený z uvedených substrátů je postupně deponována vrstva stříbra, poté kobaltu a stříbra. Tloušťka každé vrstvy je 6 nm. Vrstvy jsou studovány užitím metod rentgenové fotoelektronové spektroskopie (XPS) a mikroskopie atomárních sil (AFM). Typ růstu vrstvy se zásadně liší u různých povrchových úprav substrátu. Výsledkem jsou připravené trojvrstvy Ag/Co/Ag na SiO2/Si(111) a Si(111) 7×7, které lze využít v oblasti plazmoniky a lze magnetickým polem ovlivnit chování povrchových plazmonových polaritonů. The Bachelor's thesis is aimed to the preparation of silver and cobalt ultrathin films. The films are formed on modified surfaces of crystalline silicon substrates (SiO2/Si(111), Si(111) ?H, Si(111) 7×7) and amorphous SiO2 in a form of a quartz glass. Thin films are grown using an effusion cell for Molecular Beam Epitaxy (MBE). Surface modified surfaces are covered subsequently by a silver, cobalt and silver thin layer. The individual film thickness is 6 nm. Consequently the samples are studied by the X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) and the Atomic Force Microscopy (AFM). The morphology of thin films and growth modes are compared among the substrates. Growth modes change with the surface modification type. Complete trilayer system Ag/Co/Ag was prepared on SiO2/Si(111) and Si(111) 7×7. Such system can be employed in plasmonics in order to allow the control of surface plasmon polariton properties by an external magnetic field.
Klíčová slova: AFM; Ag; kobalt; křemík; MBE; růst tenkých vrstev; Si; SiO2; stříbro; trojvrstva; XPS; AFM; Ag; cobalt; MBE; Si; silicon; silver; SiO2; thin film growth; trilayer; XPS

Instituce: Vysoké učení technické v Brně (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11012/14113

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-212109


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Školství > Veřejné vysoké školy > Vysoké učení technické v Brně
Vysokoškolské kvalifikační práce > Bakalářské práce