Název: SMV-2014-09: Řešení nanolitografického systému založeného na dvoufotonové fotopolymerizaci
Překlad názvu: SMV-2014-09: Nanolithography system based on two-photon photopolymerization
Autoři: Jákl, Petr
Typ dokumentu: Výzkumné zprávy
Rok: 2014
Jazyk: cze
Abstrakt: [cze] [eng]

Klíčová slova: holography; nanolitography; optical litography; two-photon photopolymerization

Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0240986

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-180419


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav přístrojové techniky
Zprávy > Výzkumné zprávy
 Záznam vytvořen dne 2015-01-14, naposledy upraven 2021-11-24.


Není přiložen dokument
  • Exportovat ve formátu DC, NUŠL, RIS
  • Sdílet