Název:
Nanoposuvné stolky s velkým rozsahem polohování pro AFM mikroskopii
Překlad názvu:
Nano-stage with a large range of positionig for AFM microscopy
Autoři:
Číp, Ondřej Typ dokumentu: Příspěvky z konference Konference/Akce: LASER53, Třešť (CZ), 2013-10-30 / 2013-11-01
Rok:
2013
Jazyk:
cze
Abstrakt: [cze][eng] Nanopolohovací stolky pro mikroskopii atomárních sil (AFM) musí splňovat několik důležitých úkolů během procesu skenování. Především musejí zajistit polohování ve dvou souřadných osách (X a Y) a zároveň nesou testovaný vzorek, který je pak postupně posouván v těchto dvou osách přes místo, kde je umístěna detekční sonda. V případě AFM mikroskopie jde o specializovaný hrot, kterým je provedena inspekce celého povrchu vzorku v ose Z, za současného synchronizovaného pohybu v osách X a Y. Délkové rozlišení v ose Z sahá díky principu AFM mikroskopie až do subnanometrové oblasti. Proto je vyžadováno rozlišení polohy vzorku v ose X a Y také obvykle nejméně v řádu nanometrů. Tento kritický parametr je však navíc komplikován požadavkem, aby rozsah polohování v obou osách X a Y byl srovnatelný s velikostí vzorku. Běžné komerční nanoposuvné stolky dosahují maximálního rozsahu vychýlení v řádu několika set mikrometrů, zatímco vhodný rozsah se pohybuje v řádu jednotek milimetrů. V případě uvedených komerčních stolků se zde naráží na principiální omezení piezoelektrických akčních členů, které jsou schopny sice spojitě polohovat s rozlišením v subnanometrové oblasti, avšak maximální výchylka je pouze několik jednotek mikrometrů daných mechanickými možnostmi prohnutí lamel vícenásobného piezo členu.We present a new concept of long-range positioning stage for scanning probe microscopy. We developed the stuck planchet moving stage where X-Y axes of positioning are controlled by two incremental piezoelectric actuators. We demonstrated moving range up to 7 mm of positioning in both axes. The absolute position of the stage is measured by two optical linear encoders. The resolution of the positioning is about 10 nm.
Klíčová slova:
coherent lasers; interferometry; modelocked lasers Číslo projektu: ED0017/01/01, FR-TI1/241 (CEP), GAP102/10/1813 (CEP) Poskytovatel projektu: GA MŠk, GA MPO, GA ČR Zdrojový dokument: Sborník příspěvků multioborové konference LASER53, ISBN 978-80-87441-10-7
Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR
(web)
Informace o dostupnosti dokumentu:
Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR. Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0227743