Název:
SMV-2020-27: Interferometrický systém pro souřadnicové odměřování
Překlad názvu:
SMV-2020-27: Interferometric system for coordinate measurement
Autoři:
Lazar, Josef ; Hrabina, Jan ; Holá, Miroslava ; Číp, Ondřej ; Čížek, Martin Typ dokumentu: Výzkumné zprávy
Rok:
2020
Jazyk:
cze
Abstrakt: [cze][eng] Interferometrický systém pro polohování destiček s vysokým rozlišením je výsledkem aplikovaného výzkumu využívajícího dlouhodobých výsledků výzkumu v optické dimenzionální metrologii na katedře koherenční optiky, který je v prototypové podobě navržen pro litografické systémy s elektronovým paprskem společnosti Raith Nanofabrication, GmbH, Německo. Několik prototypů bylo testováno na zapisovačích elektronických paprsků a vstoupí do výroby.The interferometric system for high-resolution wafer positioning is a result of applied research exploiting long-term research results in optical dimensional metrology at the Department of Coherence Optics which is in a prototype form designed for electron-beam lithography systems of a company Raith Nanofabrication, GmbH, Germany. Several prototypes have been tested on e-beam writers and will enter production.
Klíčová slova:
interferometry; laser technology; metrology
Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR
(web)
Informace o dostupnosti dokumentu:
Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR. Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0314061