Original title: Stabilita optického monitoru při depozici 42-vrstvého interferenčního „bandpass“ filtru 520-590 nm
Translated title: Stability of an optical monitor for deposition of 42-layer interference bandpass filter 520-590 nm
Authors: Žídek, Karel
Document type: Research reports
Year: 2018
Language: cze
Abstract: [cze] [eng]
V této zprávě popisujeme stabilitu depozice komplikovaných soustav tenkých vrstev, které byly navrženy jako interferenční filtr s pásmovou propustností. Jde o 42 vrstev TiO2 a SiO2, které jsou monitorovány jednak tzv. krystalovým a optickým monitorem tloušťky. Diskutujeme případ, kdy je návrh IF průběžně upravován podle reálné tloušťky deponovaných vrstev. We report on stability of a deposition process of a complex system of thin layers. The layers were designed as a 42-layer bandpass interference filter. The layers of TiO2 and SiO2 were monitored both by the means of a crystal and an optical thickness monitor. We discuss the case when the design of the interference filter is continuously adapted according to the real thickness of the already deposited layers.
Keywords: deposition stability; interference filter; thickness monitor; thin layer deposition
Project no.: LO1206 (CEP)
Funding provider: GA MŠk

Institution: Institute of Plasma Physics AS ČR (web)
Document availability information: Fulltext is available at the institute of the Academy of Sciences.
Original record: http://hdl.handle.net/11104/0287992

Permalink: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-387521


The record appears in these collections:
Research > Institutes ASCR > Institute of Plasma Physics
Reports > Research reports