Název: Srovnání vlastností tenkých vrstev titanu, niklu a stříbra, využívaných v polovodičové technologii
Překlad názvu: Comparison of properties of thin layers of titanium, nickel and silver used in semiconductor technology
Autoři: Dorotík, David ; Prášek, Jan (oponent) ; Hejátková, Edita (vedoucí práce)
Typ dokumentu: Bakalářské práce
Rok: 2018
Jazyk: cze
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstrakt: [cze] [eng]
Bakalářské práce byla spojená s poznáním všeobecné problematiky nanášení tenkých vrstev metodami napařování a naprašování. Přípravou substrátu a jeho čištění před deponováním tenkých vrstev. Práce byla zaměřena na vlastnosti těchto tenkých vrstev v polovodičové technologii. Bachelor theses were connected with knowledge of general problems of application of thin films by methods of sputtering and evaporation. Prepare the substrate and clean it before depositing thin layers. The work was focused on the properties of these thin films in semiconductor technology.
Klíčová slova: Napařování; naprašování; polovodičová technika; tenké vrstvy.; evaporation; semiconductor technology; Sputtering; thin films

Instituce: Vysoké učení technické v Brně (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11012/81747

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-377849


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Školství > Veřejné vysoké školy > Vysoké učení technické v Brně
Vysokoškolské kvalifikační práce > Bakalářské práce