Název: Deposition of Organosilicon Polymer Thin Films by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
Překlad názvu: Depozice organosilikonových tenkých vrstev pomocí PECVD
Autoři: Zajíčková, L. ; Buršíková, V. ; Sťahel, P. ; Buršík, Jiří ; Peřina, Vratislav ; Macková, Anna ; Dubroka, A.
Typ dokumentu: Sborníky
Konference/Akce: International Conference of Solid State Chemistry /7./, Pardubice (CZ), 2006-09-24 / 2006-09-29
Rok: 2006
Jazyk: eng
Abstrakt: doplnit
Klíčová slova: organosilicon polymers; PECVD; surface analyses
Číslo projektu: CEZ:AV0Z10480505 (CEP), CEZ:AV0Z20410507 (CEP)

Instituce: Ústav jaderné fyziky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0138433

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-36067


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav jaderné fyziky
Konferenční materiály > Sborníky
 Záznam vytvořen dne 2011-07-01, naposledy upraven 2024-01-26.


Není přiložen dokument
  • Exportovat ve formátu DC, NUŠL, RIS
  • Sdílet