Název: Imaging Reflectometry Measuring Thin Films Optical Properties
Překlad názvu: Imaging Reflectometry Measuring Thin Films Optical Properties
Autoři: Běhounek, Tomáš ; Spousta, Jiří (oponent) ; Zicha,, Josef (oponent) ; Kotačka, Libor (oponent) ; Druckmüller, Miloslav (vedoucí práce)
Typ dokumentu: Disertační práce
Rok: 2009
Jazyk: eng
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství
Abstrakt: [eng] [cze]
V této práci je prezentována inovativní metoda zvaná \textit{Zobrazovací Reflektometrie}, která je založena na principu spektroskopické reflektometrie a je určena pro vyhodnocování optických vlastností tenkých vrstev .\ Spektrum odrazivosti je získáno z map intenzit zaznamenaných CCD kamerou. Každý záznam odpovídá předem nastavené vlnové délce a spektrum odrazivosti může být určeno ve zvoleném bodu nebo ve vybrané oblasti.\ Teoretický model odrazivosti se fituje na naměřená data pomocí Levenberg~-~Marquardtova algoritmu, jehož výsledky jsou optické vlastnosti vrstvy, jejich přesnost, a určení spolehlivosti dosažených výsledků pomocí analýzy citlivosti změn počátečních nastavení optimalizačního algoritmu. An innovative method of evaluating thin film optical properties, the so called {\it Imaging Reflectometry} based on principles of spectroscopic reflectometry is presented in this thesis.\ Reflectance spectra of the film is extracted from intensity maps recorded by CCD camera, that correspond to chosen wavelengths, either over selected area or at one point.\ A theoretical model of reflectance is fitted to experimental data (the extracted reflectance spectra) by applying Levenberg~-~Marquardt algorithm in order to determine optical properties, their accuracy and reliability factor used to quantify a convergence successfulness of the reflectance model and hence the quality of the acquired results at given settings in a sense of a sensitivity analysis.
Klíčová slova: additive noise; dispersion model; image filter; image processing; Levenberg~-~Marquardt; nonlinear regression; optical properties; reflectance; reflectance spectra; reflectometry; reliability factor; sensitivity analysis; sum of the least squares; Thin film; aditivní šum; analýza citlivosti; disperzní model; faktor spolehlivosti; Levenberg~-~Marquardt; metoda nejmenších čtverců; nelineární regrese; obrazový filtr; odrazivost; optické vlastnosti; reflektometrie; spektrum odra\-zivosti; Tenká vrstva; zpracování obrazu

Instituce: Vysoké učení technické v Brně (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11012/18281

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-233857


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Školství > Veřejné vysoké školy > Vysoké učení technické v Brně
Vysokoškolské kvalifikační práce > Disertační práce