host ::
| Hlavní stránka > Konferenční materiály > Příspěvky z konference > Exposure Time Comparison between E-beam Writer with Gaussian Beam and Variable Shaped Beam |
Název:
Exposure Time Comparison between E-beam Writer with Gaussian Beam and Variable Shaped Beam
Autoři: Horáček, Miroslav ; Krátký, Stanislav ; Urbánek, Michal ; Kolařík, Vladimír ; Meluzín, Petr ; Matějka, Milan ; Chlumská, Jana
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: NANOCON 2014. International Conference /6./, Brno (CZ), 2014-11-05 / 2014-11-07
Rok: 2014
Jazyk: eng
Abstrakt: One of the main goals in e-beam lithography is to increase exposure speed to achieve higher throughput. There are basically two types of electron-beam writers, shaped beam lithography systems and Gaussian beam lithography systems. The exposure time of both e-beam writers consist in essence of beam-on time, deflection system stabilization time and stage movement time. Exposure time testing was carried out on two types of patterns. There were completely filled in areas, binary period gratings (ratio 1:1 between exposed and unexposed areas), and multileveled structures (computer generated holograms). Exposures data was prepared according to standard technology (PMMA resist, exposure dose, non-alcoholic based developer) for both systems. The result of experiment shows that variable shaped beam system has advantage in multileveled structures while the Gaussian beam system is more suitable for gratings type of pattern. It was proved that combination of both systems has its use to increase exposures throughput.
Klíčová slova: e-beam writer; Gaussian beam; variable shaped beam
Číslo projektu: LO1212 (CEP), ED0017/01/01, TE01020118 (CEP)
Poskytovatel projektu: GA MŠk, GA MŠk, GA TA ČR
Zdrojový dokument: NANOCON 2014. 6th International conference proceedings, ISBN 978-80-87294-55-0
Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0241322
Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-178287
Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav přístrojové techniky
Konferenční materiály > Příspěvky z konference
Autoři: Horáček, Miroslav ; Krátký, Stanislav ; Urbánek, Michal ; Kolařík, Vladimír ; Meluzín, Petr ; Matějka, Milan ; Chlumská, Jana
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: NANOCON 2014. International Conference /6./, Brno (CZ), 2014-11-05 / 2014-11-07
Rok: 2014
Jazyk: eng
Abstrakt: One of the main goals in e-beam lithography is to increase exposure speed to achieve higher throughput. There are basically two types of electron-beam writers, shaped beam lithography systems and Gaussian beam lithography systems. The exposure time of both e-beam writers consist in essence of beam-on time, deflection system stabilization time and stage movement time. Exposure time testing was carried out on two types of patterns. There were completely filled in areas, binary period gratings (ratio 1:1 between exposed and unexposed areas), and multileveled structures (computer generated holograms). Exposures data was prepared according to standard technology (PMMA resist, exposure dose, non-alcoholic based developer) for both systems. The result of experiment shows that variable shaped beam system has advantage in multileveled structures while the Gaussian beam system is more suitable for gratings type of pattern. It was proved that combination of both systems has its use to increase exposures throughput.
Klíčová slova: e-beam writer; Gaussian beam; variable shaped beam
Číslo projektu: LO1212 (CEP), ED0017/01/01, TE01020118 (CEP)
Poskytovatel projektu: GA MŠk, GA MŠk, GA TA ČR
Zdrojový dokument: NANOCON 2014. 6th International conference proceedings, ISBN 978-80-87294-55-0
Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0241322
Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-178287
Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav přístrojové techniky
Konferenční materiály > Příspěvky z konference
Záznam vytvořen dne 2015-01-05, naposledy upraven 2021-11-24.