Název: Analýza emisních čar v čistícím a plazmovém výboji v naprašovacím stroji UPM810
Překlad názvu: Analyse of Emission Lines in Sputter Machine UPM 810
Autoři: Oupický, Pavel
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: Člověk ve svém pozemském a kosmickém prostředí/34./, Úpice (CZ), 2013-05-14 / 2013-05-16
Rok: 2014
Jazyk: cze
Abstrakt: [cze] [eng]
V článku je analyzováno spektrum čisticího a plazmového výboje v naprašovacím stroji UPM810. Jako konkrétní příklad je proveden pokus o analýzu spektra naměřeného spektrometrem USB2000 při naprašování křemíku v argonové atmosféře There is analysed in this paper the spectrum in the sputtering machine UPM810 by the sputtering of Si in the argon atmosphere by using of spectrometer USB2000
Klíčová slova: broadening; Emission lines; gas; measuring; profile; temperature
Zdrojový dokument: Člověk ve svém pozemském a kosmickém prostředí. Bulletin referátů z konference, ISBN 978-80-86303-38-3

Instituce: Ústav fyziky plazmatu AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0234787

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-174840


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav fyziky plazmatu
Konferenční materiály > Příspěvky z konference