|
|
Bandpass filter for secondary electrons in SEM - simulations
Konvalina, Ivo ; Mika, Filip ; Krátký, Stanislav ; Müllerová, Ilona
Scanning electron microscope (SEM) is commonly equipped with a through-the-lens secondary electron detector (TLD). The TLD detector in Magellan 400 FEG SEM works as a bandpass filter for the special setup of potentials of electrodes inside the objective lens, the positive potential on the specimen regulates the energy window of the filter. An energy filtered image contains additional information to that of an unfiltered one. The contrast of the filtered image is changed and new information about the topography and the material can be observed.\nTo understand image contrast formation with TLD detector we traced SEs and BSEs through the three-dimensional (3D) model of included 3D distribution of the electrostatic and magnetic fields. The properties of the bandpass filter were simulated for a working distance (WD) in the range of 1 mm to 3 mm and a primary beam energy (EP) from 1 keV to 10 keV.\nThe 3D electrostatic field of the system was calculated by Simion, magnetic field and raytracing were done using EOD program.
|
|
|
Large-area gray-scale structures in e-beam writer versus area current homogeneity and deflection uniformity
Kolařík, Vladimír ; Horáček, Miroslav ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Bok, Jan
The high stability and good current homogeneity in the spot of the e-beam writer is crucial to the exposure quality, particularly in the case of large-area structures when gray-scale lithography is used. Even though the deflection field distortion is calibrated regularly and beam focus and beam astigmatism is dynamically corrected over the entire deflection field,\nwe can observe disturbances in the exposed relief for both nowadays types of e-beam writers, the shaped e-beam writing system and the Gaussian e-beam writing system. A stable and homogeneous angular current density distribution in the spot is important especially in the case of shaped e-beam lithography systems. A non-homogeneity of the spot over deflection field is seen alongside the field boundaries of both lithography systems.
|
|
|
Stanovení křivek citlivosti pro litograf s gaussovským svazkem
Šuľan, Dušan ; Horáček,, Miroslav (oponent) ; Krátký, Stanislav (vedoucí práce)
Předkládaná práce se zabývá procesem tvorby struktur pomocí elektronové litografie. Základním zaměřením práce je stanovení křivek citlivosti rezistu PMMA pro elektronový litograf Vistec EBPG 5000+ ES. Křivky citlivosti jsou stanoveny pro různé vývojky, doby vyvolávání a hloubky rezistu. Z těchto křivek jsou poté určeny citlivosti a kontrasty pro danou soustavu rezist-vývojka. Následně jsou křivky citlivosti aplikovány na korekce proximity efektu u reálných struktur, konkrétně u difrakčních periodických mřížek a potom vyhodnoceny.
|
|
|
Plazmonické struktury vytvořené pomocí elektronové litografie
Šimík, Marcel ; Urbánek,, Michal (oponent) ; Krátký, Stanislav (vedoucí práce)
Předkládaná práce se zabývá procesem tvorby plazmonických struktur pomocí elektronové litografie. Základním úkolem práce je vytvořit struktury publikované v NatureNanotechnology s použitím rezistu PMMA. Je vytvořeno několik variant motivů struktur s různými expozičními dávkami a tvary, aby bylo možné stanovit nejvýhodnější variantu. Z těchto variant je vyvozeno, které jsou nejefektivnější s použitím optického a elektronového mikroskopu. S těmito informacemi jsou vytvořeny a vyhodnoceny velkoplošné expozice.
|
|
|
Studium vlastností periodických mřížek vytvořených elektronovou litografii
Krátký, Stanislav ; Opletal, Petr (oponent) ; Matějka, Milan (vedoucí práce)
Tato práce se zabývá procesem tvorby reliéfních periodických struktur pomocí elektronové litografie. Popisuje, jak navrhnout tyto struktury pomocí počítače a následně je vytvořit elektronovým litografem. Dále se zabývá metodami, kterými můžeme tyto struktury měřit a vyhodnocovat. Tyto metody jsou použity k měření a vyhodnocení binárních periodických mřížek a pomocí získaných dat je stanovena závislost hloubky mřížky na její periodě. Práce se dále zabývá měřením difrakční účinnosti na zhotovených mřížkách a srovnáním závislostí jejich difrakční účinností na hloubce mřížky.
|
|
|
Technologie leptání křemíku
Krátký, Stanislav ; Ježek,, Jan (oponent) ; Matějka, Milan (vedoucí práce)
Tato práce se zabývá technologií mokrého a suchého leptání křemíku. Zkoumá se použití vodného roztoku hydroxidu draselného. V suchých technikách se práce zaměřuje na plazmatické leptání křemíku směsí CF4+O2. U obou leptacích procesů jsou stanoveny důležité parametry leptání, jako je rychlost leptání křemíku, maskovacího materiálu, selektivita leptání, drsnost povrchu a podleptání masky. Řeší se zde i další pomocné a přípravné práce v technologii leptání. Konkrétně jde o vytváření masky v rezistu a v oxidu křemíku, litografii a leptání rezistu za pomoci kyslíkové plazmy.
|
|
| |
|
|
SMV-2015-15: Vývoj amplitudově fázové masky
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném skleněnou deskou. Výzkum zahrnuje analýzu grafického resp. optického motivu, výzkum a aplikaci reliéfních struktur realizujících požadované grafické resp. optické vlastnosti, vývoj technologických postupů pro přípravu kombinované fotošablony, která zpracovává současně amplitudu i fázi procházejícího světla, ověření optických vlastností takové fotošablony.
|
|
|
SMV-2015-14: Technologie elektronové litografie
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti přístrojového vybavení pro elektronovou litografii. Výzkum zahrnuje celý litografický systém, zejména elektronové emitéry Schottky ZrO/W, elektronovou optiku se systémem tvarování svazku, X-Y pohybový mechanismus, vakuový systém, napájecí a řídící elektroniku.
|
|
|
SMV-2015-13: Reliéfní struktury na principu difraktivní optiky
Krátký, Stanislav ; Kolařík, Vladimír ; Horáček, Miroslav ; Matějka, Milan ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace optických struktur na principu difraktivní optiky prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném křemíkovou nebo skleněnou deskou. Výzkum zahrnuje analýzu optického motivu, výzkum a aplikaci reliéfních struktur realizujících požadované optické vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální realizace reliéfních struktur, vypracování a analýzu technologie realizace reliéfní struktury s ohledem na limity současných vědeckých přístrojů, ověření teoretických úvah expozicí vzorku reliéfní struktury.
|
host ::
RSS.